[发明专利]一种化学机械抛光液及其应用在审
| 申请号： | 201410856726.5 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105802511A | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 高嫄;荆建芬;王雨春;张建;蔡鑫元;邱腾飞 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光液及其应用，具体公开一种方法，采用含硅的有机化合物，该含硅化合物和其他络合剂之间存在显著的协同作用，大幅提高二氧化硅的抛光速度。同时，在高电解质离子强度时，能够稳定研磨颗粒，提高抛光液pH的稳定性，即维持研磨颗粒的设定pH不发生变化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其包括含硅化合物、大于或等于0.1mol/Kg的离子强度的电解质离子、络合剂、二氧化硅研磨颗粒以及水。
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