[发明专利]具有减小不准确性且维持对比度的填充元件的计量目标有效
申请号: | 201410853425.7 | 申请日: | 2014-12-31 |
公开(公告)号: | CN104835754B | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 努里尔·阿米尔;拉维夫·约哈南 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/67 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请案涉及具有减小不准确性且维持对比度的填充元件的计量目标。本发明提供设计计量目标的方法。所述方法包括识别目标设计中的连续区域及将指定填充元件引入到所述所识别连续区域中。通过对比度要求与不准确性要求之间的折衷而确定所述所引入填充元件的参数,所述不准确性要求经由制作而与所述识别连续区域相关联。本发明揭示相应目标及目标设计文件。任选地,可以改善的准确性使用相同的计量设备及过程来测量所述目标。 | ||
搜索关键词: | 填充 连续区域 准确性要求 计量 目标设计 减小 计量设备 引入 申请案 测量 关联 制作 | ||
【主权项】:
1.一种设计计量目标的方法,其包括:采用一或多个处理器识别目标设计中的一或多个连续区域;采用所述一或多个处理器将一或多个经选择的填充元件引入到所述一或多个经识别的连续区域中以形成经修改的目标设计,其中基于所述经修改的目标设计的对比度要求与不准确性要求确定所述一或多个经引入的填充元件的一或多个参数,其中对比度和不准确性取决于在所述一或多个连续区域内的空白区域的数量;及采用在晶片上的所述经修改的目标设计制作目标。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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