[发明专利]具有减小不准确性且维持对比度的填充元件的计量目标有效

专利信息
申请号: 201410853425.7 申请日: 2014-12-31
公开(公告)号: CN104835754B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 努里尔·阿米尔;拉维夫·约哈南 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L21/67
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 张世俊
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本申请案涉及具有减小不准确性且维持对比度的填充元件的计量目标。本发明提供设计计量目标的方法。所述方法包括识别目标设计中的连续区域及将指定填充元件引入到所述所识别连续区域中。通过对比度要求与不准确性要求之间的折衷而确定所述所引入填充元件的参数,所述不准确性要求经由制作而与所述识别连续区域相关联。本发明揭示相应目标及目标设计文件。任选地,可以改善的准确性使用相同的计量设备及过程来测量所述目标。
搜索关键词: 填充 连续区域 准确性要求 计量 目标设计 减小 计量设备 引入 申请案 测量 关联 制作
【主权项】:
1.一种设计计量目标的方法,其包括:采用一或多个处理器识别目标设计中的一或多个连续区域;采用所述一或多个处理器将一或多个经选择的填充元件引入到所述一或多个经识别的连续区域中以形成经修改的目标设计,其中基于所述经修改的目标设计的对比度要求与不准确性要求确定所述一或多个经引入的填充元件的一或多个参数,其中对比度和不准确性取决于在所述一或多个连续区域内的空白区域的数量;及采用在晶片上的所述经修改的目标设计制作目标。
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