[发明专利]气刻配向装置及气刻配向方法在审
| 申请号： | 201410849358.1 | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104597662A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 袁履璀 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种气刻配向装置及气刻配向方法。该气刻配向装置包括一承载平台(1)、及一高压气流产生器(3)；所述高压气流产生器(3)包括两个彼此平行间隔设置的立柱(31)、设于所述两个立柱(31)之间的气箱(33)、及设于所述气箱(33)底面的多个密集排布的气针(35)；所述气箱(33)能够沿立柱(31)进行升降，并能够绕垂直于两立柱(31)的轴线(Z)进行旋转；所述气箱(33)从外部管道接收并存储气体，再通过所述气针(35)喷射高压气流冲击配向膜(7)表面，对配向膜(7)进行配向，能够有效避免接触式配向在配向膜表面产生划痕、杂质和静电的问题，使配向均匀，有利于提高液晶显示器的画面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 气刻配 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种气刻配向装置，其特征在于，包括：一承载平台(1)、及一高压气流产生器(3)，所述承载平台(1)与高压气流产生器(3)之间能够产生沿水平方向的相对运动；所述承载平台(1)用于承载基板(5)、与均匀覆盖于所述基板(5)上的配向膜(7)；所述高压气流产生器(3)包括两个彼此平行间隔设置的立柱(31)、设于所述两个立柱(31)之间的气箱(33)、及设于所述气箱(33)底面的多个密集排布的气针(35)；所述气箱(33)能够沿立柱(31)进行升降，并能够绕垂直于两立柱(31)的轴线(Z)进行旋转；所述气箱(33)从外部管道接收并存储气体，再通过所述气针(35)喷射高压气流冲击配向膜(7)表面，对配向膜(7)进行配向。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司;，未经深圳市华星光电技术有限公司;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410849358.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：显示基板、显示面板和显示装置
- 下一篇：显示装置
