[发明专利]一种用于MOCVD设备的喷淋头

摘要

一种用于MOCVD设备的喷淋头，属于气体喷淋装置，解决现有喷淋头存在的原料气体不能均匀混合的问题，同时减少在喷淋头顶部出现沉积堵塞喷口的问题。本发明包括底座、下隔板、上隔板、顶盖和中心导管，顶盖和底盖之间被隔成上层气腔、中间气腔和底层腔体；多根上层气管平行穿过上隔板、下隔板和底盖，多根下层气管平行穿过下隔板和底盖，各上层气管和下层气管下端分别装设有长喷嘴和短喷嘴；长喷嘴和短喷嘴在底盖下表面交错均匀排列。本发明通过对长、短喷嘴的分配方式，可以提高反应腔内气体均匀性，提高反应速率，抑制反应物在顶部避免沉积造成喷口堵塞的情况，能够提高晶体生长质量，显著提高晶体成品率，降低生产成本。

主权项

一种用于MOCVD设备的喷淋头，包括底座(1)、下隔板(2)、上隔板(3)、顶盖(4)和中心导管(5)，其特征在于：所述底座(1)由支承环(1‑1)和底盖(1‑2)成一体构成，所述支承环(1‑1)为圆筒形，所述底盖(1‑2)固连并覆盖于所述支承环(1‑1)下端面；所述下隔板(2)和上隔板(3)在所述支承环1‑1的内孔轴向自下而上间隔平行设置，所述顶盖(4)固连于并覆盖所述底座1的支承环1‑1上端面；所述顶盖(4)和所述上隔板(3)之间的支承环内孔构成上层气腔；所述上隔板(3)和所述下隔板(2)之间的支承环内孔构成中间气腔；所述下隔板(2)和底盖(1‑2)之间的支承环内孔构成底层腔体；所述顶盖(4)表面中心具有进气接头(4A)，其为空心圆柱；顶盖4表面还具有进水接头(4B)和出水接头(4C)，所述中心导管(5)穿过所述顶盖(4)的进气接头(4A)和上隔板(3)连通中间气腔；中心导管(5)外壁与进气接头(4A)内孔之间形成与上层气腔连通的环形气道；所述进水接头(4B)通过穿过上隔板(3)和下隔板(2)的导水管连通所述底层腔体；所述出水接头(4C)通过穿过上隔板(3)和下隔板(2)的导水管连通所述底层腔体；多根上层气管(6)平行穿过所述上隔板(3)、下隔板(2)和底盖(1‑2)，各上层气管(6)下端露出底盖(1‑2)部分装设有长喷嘴(7)；多根下层气管(8)平行穿过所述下隔板(2)和底盖(1‑2)，各下层气管(8)下端露出底盖(1‑2)部分装设有短喷嘴(9)；所述长喷嘴(7)和短喷嘴(9)在底盖(1‑2)下表面交错均匀排列。