[发明专利]以慢光增强吸收的锗光检测器在审
申请号: | 201410811618.6 | 申请日: | 2014-12-23 |
公开(公告)号: | CN104752548A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 那允中 | 申请(专利权)人: | 光澄科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/0352 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 梁挥,常大军 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 一种以慢光增强吸收的锗光检测器,至少包括一依序具有一硅基板、一氧化层及一硅岛层的硅绝缘基板;一形成于该硅岛层上的锗条纹层;以及多个分别配置于该硅岛层的平面部,且位于该第一掺杂区及该第二掺杂区上的金属电极。藉此,本发明通过锗条纹层操作在慢光模式,利用硅岛层厚度d2、以及锗条纹层厚度d1与宽度w等参数,并以调变其缓变渐缩结构与周期性结构控制群折射,使锗的吸收系数可以在1600nm波长提高1dB/μm,与传统块状锗相比大约能提高1至2个数量级。 | ||
搜索关键词: | 增强 吸收 检测器 | ||
【主权项】:
一种以慢光增强吸收的锗光检测器,其特征在于,包括:一硅绝缘基板,依序具有一硅基板、一氧化层及一硅岛层,该硅岛层具有一硅锗层交接面及一位于该硅锗层交接面两侧的平面部,且自部分该硅锗层交接面的下方延伸至部分该平面部的下方包含有一第一掺杂区及一第二掺杂区;以及一锗条纹层,形成于该硅岛层上,其具有一上表面及相对应的一第一侧表面与一第二侧表面,该锗条纹层于接近入光侧的方向包含有一缓变渐缩结构,且于远离入光侧的方向包含有一周期性结构。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的