[发明专利]一种缺陷检测方法有效

专利信息
申请号: 201410697386.6 申请日: 2014-11-26
公开(公告)号: CN104465441B 公开(公告)日: 2019-04-02
发明(设计)人: 郭贤权;姬峰;许向辉;陈超 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 吴俊
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及缺陷检测技术领域,尤其涉及一种缺陷检测方法,本发明通过利用缺陷检测设备获取扫描机台扫描待测芯片的扫描方式信息,并采用与该扫描方式信息一一对应的方式对待测芯片进行缺陷检测,实现了缺陷检测设备侦测方法可变且多重,从而解决了由于扫描机台扫描方式不同造成缺陷检测设备再侦测失败的情况,大大提高了缺陷定位的准确性,提高了缺陷检测的效率。
搜索关键词: 一种 缺陷 检测 方法
【主权项】:
1.一种缺陷检测方法,其特征在于,包括如下步骤:提供待测芯片;采用一扫描机台对所述待测芯片进行缺陷扫描,获取所述待测芯片上缺陷的坐标;获取所述扫描机台扫描所述待测芯片的扫描方式信息;根据所述扫描方式信息,并根据获取的所述待测芯片上缺陷的坐标对所述待测芯片进行缺陷检测;所述方法还包括:利用缺陷检测设备获取所述扫描机台扫描所述待测芯片的扫描方式信息;继续利用所述缺陷检测设备根据所述扫描方式信息,对所述待测芯片进行缺陷检测;利用所述缺陷检测设备根据所述扫描方式信息,对所述待测芯片进行缺陷检测的步骤为:利用所述缺陷检测设备采用与所述扫描方式信息一一对应的方式对所述待测芯片进行缺陷检测;其中,所述扫描方式信息包括芯片与邻近芯片对比方式、阵列对比方式和完美芯片对比方式中的一种或多种。
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