[发明专利]一种MoO2纳米片的制备方法及MoO2纳米片有效
申请号: | 201410695809.0 | 申请日: | 2014-11-26 |
公开(公告)号: | CN104477995B | 公开(公告)日: | 2016-11-16 |
发明(设计)人: | 张仲;相忠诚;王庆宝 | 申请(专利权)人: | 济南大学 |
主分类号: | C01G39/02 | 分类号: | C01G39/02;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250022 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供一种MoO2纳米片的制备方法及MoO2纳米片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)取1g‑10g还原氧化石墨烯溶于20ml无水乙醇中,在磁力搅拌机中充分搅拌1小时,然后旋涂在1cmX1cm单晶硅上;(2)取0.5g‑3gMoO3粉末放入钢玉舟中;(3)旋涂后的单晶硅面朝MoO3粉末放置但不直接接触MoO3粉末;(4)将单晶硅和钢玉舟放入高温炉恒温区中,并通入氮气N2;(5)将高温炉加热到850摄氏度并保持2小时,自然降温至室温。本发明的方法简单易行,成功率极高,能够达到90%以上,产品分布均匀、型为纳米片状,产品精度极高,适宜推广应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 moo sub 纳米 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种MoO2纳米片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)取1g‑10g还原氧化石墨烯溶于20ml无水乙醇中,在磁力搅拌机中充分搅拌1小时,然后旋涂在长度和宽度均为1cm的单晶硅上;(2)取0.5g‑3g MoO3粉末放入钢玉舟中;(3)步骤(1)旋得到的涂后的单晶硅面朝MoO3粉末放置但不直接接触MoO3粉末,旋涂后的所述单晶硅与MoO3粉末的距离不超过3cm;(4)将单晶硅和钢玉舟放入高温炉恒温区中,并通入氮气;(5)将高温炉加热到850摄氏度并保持2小时,自然降温至室温,即得。
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