[发明专利]用于防止毛刺生成的衬底有效
| 申请号： | 201410670009.3 | 申请日： | 2014-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN104659184B | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 安范模;南基明;俞京秀 | 申请（专利权）人： | 普因特工程有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/48 | 分类号： | H01L33/48;H01L33/62 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张春媛;阎娬斌 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于光学器件的衬底，包括光学器件衬底，该光学器件衬底包括沿长度方向延伸的多个导电板，其中导电板的侧表面相互结合且绝缘体插入其间，绝缘体分别形成在该侧表面上。当沿长度方向和垂直方向切割光学器件衬底时，在光学器件衬底的下表面中在切割线与绝缘体中的一个交叉的每个点处形成用于防止毛刺的具有预定深度的凹槽，所述凹槽以所述绝缘体中的一个暴露于所述凹槽的内部的方式形成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 防止 毛刺 生成 衬底 | ||
【主权项】：
1.一种用于光学器件的衬底，所述光学器件包括光学器件衬底，所述光学器件衬底具有沿长度方向伸长的多个导电板，其中所述导电板的侧表面相互结合且绝缘体插入其间，所述绝缘体分别形成在所述侧表面上，其中当沿长度方向和垂直方向切割所述光学器件衬底时，在所述光学器件衬底的下表面中在切割线与绝缘体中的一个交叉的每个点处形成用于防止毛刺的具有预定深度的凹槽，所述凹槽以所述绝缘体中的一个暴露于所述凹槽的内部的方式形成，其中液体绝缘材料在所述凹槽内部沉积并固化，其中光敏阻焊剂(PSR)沉积在所述绝缘体的暴露于光学器件衬底的下表面的区域上和所述液体绝缘材料的暴露于光学器件衬底的下表面的区域上。
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