[发明专利]光掩模和使用了该光掩模的基板的制造方法

摘要

本发明提供光掩模和使用了该光掩模的基板的制造方法，该光掩模能够在抑制设备投资的增加和生产效率的降低的同时，利用照相平版印刷形成具有线宽2μm～10μm的精细部分的线图案。一种光掩模，其用于形成具有线宽2μm～10μm的精细部分的线图案和围绕该线图案的周边区域，其中，该光掩模具有遮光部、对应于上述线图案的半透光部、以及围绕上述遮光部和上述半透光部围绕并对应于上述周边区域的透光部，上述半透光部的宽度比上述线图案的上述精细部分的宽度宽。

主权项

1.一种光掩模，其是为了形成线图案和围绕该线图案的周边区域而使用的光掩模，该线图案具有线宽为2μm～10μm的精细部分，上述光掩模的特征在于，该光掩模具有遮光部、与上述线图案对应的半透光部、以及围绕上述遮光部和上述半透光部并与上述周边区域对应的透光部，上述半透光部由具有透过率为30％～70％的范围的特性的膜构成，上述半透光部的宽度比上述线图案的上述精细部分的宽度宽，上述膜按照填埋上述遮光部之间的方式来配设。