[发明专利]光掩模和使用了该光掩模的基板的制造方法

权利要求书

1.一种光掩模，其是为了形成线图案和围绕该线图案的周边区域而使用的光掩模，该线图案具有线宽为2μm～10μm的精细部分，上述光掩模的特征在于，

该光掩模具有遮光部、与上述线图案对应的半透光部、以及围绕上述遮光部和上述半透光部并与上述周边区域对应的透光部，

上述半透光部由具有透过率为30％～70％的范围的特性的膜构成，上述半透光部的宽度比上述线图案的上述精细部分的宽度宽，上述膜按照填埋上述遮光部之间的方式来配设。

2.如权利要求1所述的光掩模，其特征在于，在将上述线图案的精细部分的宽度设为Wb、将上述半透光部的宽度设为Ws时，上述Wb和Ws满足下述关系：

1.2≤Ws/Wb≤3。

3.如权利要求1所述的光掩模，其特征在于，该光掩模在接近式曝光中使用。

4.如权利要求2所述的光掩模，其特征在于，该光掩模在接近式曝光中使用。

5.如权利要求1～4任一项所述的光掩模，其特征在于，上述遮光部相互间隔开并被排列成矩阵状，在相邻的上述遮光部之间的区域形成有上述半透光部。

6.如权利要求1～4任一项所述的光掩模，其特征在于，上述线图案为黑底。

7.如权利要求5所述的光掩模，其特征在于，上述线图案为黑底。

8.一种滤色器的制造方法，该方法中，将配设于滤色器基板上的感光性材料曝光后进行显影处理，从而形成黑底和围绕该黑底的周边区域，该黑底具有线宽为2μm～10μm的精细部分，其特征在于，该制造方法具备下述工序：

对光掩模照射用于曝光的光，从而将上述感光性材料曝光的工序，对于该光掩模，通过对设置在掩模基板上的遮光膜和半透光膜分别进行图案化而设有由遮光部、与上述黑底对应的半透光部、以及围绕上述遮光部和上述半透光部并与上述周边区域对应的透光部构成的转印图案，并且上述半透光部由具有透过率为30％～70％的范围的特性的上述半透光膜构成，上述半透光部的宽度比上述黑底的上述精细部分的宽度宽，上述半透光膜按照填埋上述遮光部之间的方式来配设；和

将曝光后的上述感光性材料显影，从而形成上述黑底的工序。