[发明专利]一种离子注入加速装置在审
| 申请号： | 201410645015.3 | 申请日： | 2014-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN105655218A | 公开（公告）日： | 2016-06-08 |
| 发明（设计）人： | 刘艳 | 申请（专利权）人： | 北京中科信电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 101111 北京市通*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入加速装置，包括：入口装置(1)、加速模块(2)、绝缘环(5)、均压模块(3)、抑制模块(7)，其中入口装置(1)的作用在于防止溅射产生的二次电子；加速模块(2)为整个发明的关键部分，通过五个加速电场实现离子束的加速聚焦；绝缘环(5)具有抗污染和绝缘性能；均压模块(3)为加速模块提供均匀的电场并防止高压打火发生；抑制模块(7)抑制离子束中的二次电子获得理想的离子束。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 加速 装置 | ||
【主权项】：
一种离子注入加速装置，其特征包括：在高压电极上安装入口光栏可以防止溅射产生的二次电子，污染离子束；高压电极(2)、中间电极、低压电极(6)组成五组等梯度加速装置，实现五次加速聚焦获得一定能量的离子束，其中绝缘环(5)就有抗污染和绝缘性能，均压模块(3)为加速装置提供均匀电场，防止局部高压放电；抑制电极(7)通过绝缘瓷柱固定在抑制固定环上，主要作用是抑制二次电子，减少加速模式下的X射线。
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