[发明专利]沉积物去除方法及气体处理装置

摘要

具有加热基板并将该基板暴露于氧等离子体中的工序和循环处理工序，在该循环处理工序中，将基板暴露于氟化氢气体和醇类气体的混合气体的气氛中，并且重复如下两个阶段将混合气体的全压设为第1全压或将醇类气体的分压设为醇类气体的第1分压的第1阶段，以及将混合气体的全压设为比第1全压低的第2全压或将醇类气体的分压设为比醇类气体的第1分压低的醇类气体的第2分压的第2阶段，在循环处理工序中，从与基板相对的区域向基板供给混合气体，并且来自包含基板的中央部的第1区域的混合气体的单位面积的供给量比来自第1区域的外侧的第2区域的混合气体的单位面积的供给量多。

主权项

一种沉积物去除方法，该沉积物去除方法用于去除已沉积于通过蚀刻形成于基板上的图案的表面的沉积物，其特征在于，该沉积物去除方法包括如下工序：氧等离子体处理工序，其在加热上述基板的同时将上述基板暴露于氧等离子体中；以及循环处理工序，其在上述氧等离子体处理工序之后，在处理室内将上述基板暴露于氟化氢气体和醇类气体的混合气体的气氛中，并且多次循环重复如下两个阶段：将上述混合气体的全压设为第1全压或将上述醇类气体的分压设为醇类气体的第1分压的第1阶段，以及通过对处理室内进行排气而将上述混合气体的全压设为比第1全压低的第2全压或将上述醇类气体的分压设为比醇类气体的第1分压低的醇类气体的第2分压的第2阶段，在上述循环处理工序中，从与上述基板相对的区域向上述基板供给上述混合气体，并且来自第1区域的上述混合气体的单位面积的供给量比来自第2区域的上述混合气体的单位面积的供给量多，上述第1区域呈圆形，且包括上述基板的中央部、并具有比上述基板的直径小的直径，上述第2区域呈环状，且位于上述第1区域的外侧。