[发明专利]柔性显示器及其制造方法有效
| 申请号： | 201410612762.7 | 申请日： | 2014-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN104637438B | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 姜振圭 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | G09G3/32 | 分类号： | G09G3/32;H01L21/77;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 余朦;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种柔性显示器及制造柔性显示器的方法，其中该方法包括：在柔性基底上形成第一阻挡层；在第一阻挡层上形成第二阻挡层，其中第二阻挡层包括硅氮化物；释放第二阻挡层的应力；在第二阻挡层上形成第一缓冲层，其中第一缓冲层包括硅氮化物；在第一缓冲层上形成第二缓冲层；以及在第二缓冲层上形成薄膜晶体管。 | ||
| 搜索关键词： | 柔性 显示器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种柔性显示器，包括：第一柔性基底；中间阻挡层，定位在所述第一柔性基底上并且包括硅氧化物；粘合层，定位在所述中间阻挡层上，并且包括其中掺杂有P型或N型导电杂质的非晶硅、或氢化的非晶硅中至少之一；第二柔性基底，定位在所述粘合层上；第一阻挡层，定位在所述第二柔性基底上并且包括硅氧化物；第二阻挡层，定位在所述第一阻挡层上并且包括硅氮化物，其中将所述第二阻挡层暴露至空气以便释放所述第二阻挡层的应力并在所述第二阻挡层上形成氧化膜；缓冲层，定位在所述第二阻挡层上并且包括硅氧化物，其中，所述缓冲层包括位于所述第二阻挡层上的与所述第二阻挡层具有相同的膜质量的第一子缓冲层，所述第一子缓冲层包括硅氮化物，以及位于所述第一子缓冲层上的第二子缓冲层；薄膜晶体管，定位在所述缓冲层上；以及有机发光元件，与所述薄膜晶体管相连接；其中所述薄膜晶体管位于所述第二柔性基底和所述有机发光元件之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410612762.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
