[发明专利]光致酸生成剂、光刻胶、以及形成电子器件的方法

摘要

一种具有通式(1)的光致酸生成剂化合物：其中a,b,c,d,e,x,L¹,L²,L³,L⁴,R¹,R²,X和Z^‑如文中所定义。所述光致酸生成剂化合物在通常用于配制光刻胶组合物的溶剂和负性色调显影剂中具有良好的溶解性。本文还描述了一种包括光致酸生成剂化合物的光刻胶组合物，包括所述光刻胶组合物的经涂覆的基材，以及使用该光刻胶组合物形成器件的方法。

主权项

1.一种具有通式(1)的光致酸生成剂化合物：其中各a独立地为0,1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11或12；各b独立地是1,2,3,4或5；各c独立地是0或1，限制条件是，至少一个c不为0；d是1；e是0或1；x是1,2或3；各L¹和L³各自独立地是单键、未取代或取代的C_1‑20脂族基团、未取代或取代的C_6‑20芳族基团、或未取代或取代的C_3‑20杂芳基；其中L¹和L³任选地直接共价相连；以及其中L¹和L³中的一个或多个任选地被可聚合的基团取代；各L²独立地是单键、羰基、酯基、酰胺基、醚氧、或任选地被醚氧、羰基、酯基或其组合取代的C_1‑20脂族基团，其中两个L²任选地被直接共价相连；以及其中一个或多个L²任选地被可聚合的基团取代；各L⁴独立地是未取代或取代的C_6‑20亚芳基、未取代或取代的C_3‑20杂亚芳基、未取代或取代的C_1‑20直链或支链亚烷基、或未取代或取代的C_3‑20环亚烷基；其中L⁴任选地与一个R²共价相连；其中一个或多个L⁴任选地被可聚合的基团取代；各R¹独立地是氢、未取代或取代的C_1‑30直链或支链烷基、未取代或取代的C_3‑30环烷基、未取代或取代的C_6‑30芳基、或未取代或取代的C_3‑30杂芳基；其中各R¹任选地与一个相邻的R¹共价相连；其中一个或多个R¹任选地被可聚合的基团取代；各R²独立地是未取代或取代的C_6‑40芳基、未取代或取代的C_3‑40杂芳基、未取代或取代的C_1‑40烷基、或未取代或取代的C_3‑40环烷基；其中当x是1时，两个R²基团任选地彼此直接共价相连；其中一个或多个R²任选地被可聚合的基团取代；各X独立地是‑O‑、‑S‑、或含醚基团、含羰基基团、含酯基基团、含碳酸酯/盐基团、含胺基团、含酰胺基团、含脲基团、含硫酸酯/盐基团、含磺酸酯/盐基团、含磺酰胺基团，或其组合；其中一个或多个X任选地被可聚合的基团取代；以及Z^‑是有机阴离子；其中Z^‑任选地被可聚合的基团取代。