[发明专利]一种用于容器内壁镀膜的CVD反应室装置

摘要

本发明提供了一种用于容器内壁镀膜的CVD反应室装置，该装置包括容器支撑底座、下O型胶圈、容器置换架、上O型胶圈、容器以及导气管；容器支撑底座上分布有容器安装孔，容器安装孔底部及下部侧面设置有开口，分别为该装置的充气接口和抽气接口；导气管上部开有若干出气孔，安装后的导气管上开口与容器底部内壁留有间隙；使用时，下O型胶圈、容器置换架、上O型胶圈、倒置的容器从下到上依次套于导气管上并互相嵌合。本装置利用容器为反应室，并且使用导气管壁上的出气孔将反应气体导入容器内壁各处的方法，完成容器内壁上的均匀镀膜。本装置可使用在各种化学气相沉积设备中，如PECVD设备上，克服了在有一定曲度的容器内壁镀膜困难等技术问题。

主权项

一种用于容器内壁镀膜的CVD反应室装置，其特征在于：所述CVD反应室装置包括容器支撑底座（1），下O型胶圈(2)，容器置换架(3)，上O型胶圈(4)，容器(5)以及导气管(6)；容器支撑底座（1）上分布有容器安装孔(7)，容器安装孔为一上大下小的孔，容器安装孔底部及下部侧面设置有开口，分别为所述CVD反应室装置的充气开口（8）和抽气开口（9）；容器置换架（3）为中空的圆柱体；其中下O型胶圈（2）、容器置换架（3）、上O型胶圈（4）、倒置的容器（5）从下到上依次套于导气管（6）上并互相嵌合；导气管（6）上部开有若干出气孔（10），安装后的导气管（6）上开口与容器底部内壁留有间隙，导气管（6）下开口通过容器安装孔底部充气开口（8）与充气管（11）一端相联。