[发明专利]一种利用合果芋-黑曲霉共生体系修复低浓度铀污染水体的方法有效

专利信息
申请号: 201410537862.8 申请日: 2014-10-14
公开(公告)号: CN104261564A 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 丁德馨;王永东;李广悦;何家东;孙静;邓钦文;胡南 申请(专利权)人: 南华大学
主分类号: C02F3/32 分类号: C02F3/32;C02F101/20
代理公司: 湖南省国防科技工业局专利中心 43102 代理人: 冯青
地址: 421001 湖南省衡阳市常胜*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供一种利用合果芋-黑曲霉共生修复体系修复低浓度铀污染水体的方法。通过在铀污染水体中栽培合果芋,并接种黑曲霉孢子悬液,建立合果芋-黑曲霉共生修复体系,利用合果芋对铀的吸附和吸收作用以及黑曲霉对铀的吸附作用,以达到去除水体中铀。本发明使1-5mg/L铀污染水体的铀含量下降80.33%-98.36%,在合适的条件下可以使其铀浓度降至国家排放标准0.05mg/L以下。本方法既具有成本低廉、修复效率高,又具有处理步骤简单、环境风险小等多重特点,具有良好的社会效益和经济效益。
搜索关键词: 一种 利用 合果芋 曲霉 共生 体系 修复 浓度 污染 水体 方法
【主权项】:
一种利用合果芋‑黑曲霉共生修复体系修复低浓度铀污染水体的方法,其特征在于:通过在铀污染水体中栽培合果芋,并接种黑曲霉孢子悬液,建立合果芋‑黑曲霉共生修复体系,利用合果芋对铀的吸附和吸收作用以及黑曲霉的吸附作用,以达到去除水体中铀,具体步骤是:步骤1、合果芋组织培养和快速繁殖;配制芽分化培养基A,体积比为MS:BA:IAA=94.8%:5%:0.2%,具体制作为:将3种溶液充分混合均匀;配制增殖培养基B,体积比为MS:BA:NAA=99.7%:0.2%:0.1%,具体制作为:将3种溶液充分混合均匀;配制诱导生根培养基C,体积比MS:NAA:IAA=99.6%:0.3%:0.1%,具体制作为:将3种溶液充分混合均匀,取一年生合果芋右侧嫩芽作为外植物体,用0.1%的氯化汞溶液加3滴Tween20消毒30分钟,接种于培养基A上,45天长成4‑5片芽苗,将芽苗转移到培养基B上,一个月左右分化从芽,待试管苗长到3cm左右,将丛生状的试管苗转移至培养基C中,一周后将经过生根诱导的丛生芽苗移栽到装有基质的黑色塑料钵中,浇透定根水,并用75%的遮阳网遮荫,相对湿度保持85‑90%,白天温度为 20‑25 ℃,夜晚温度为15‑18 ℃,每隔7 d浇1次水,25 d后用0. 5%的复合肥叶面施肥,10‑15 d定期喷洒70%代森锌可湿性粉剂800倍液,防止叶斑病和灰霉病危害,生长两个月后植物生物量可达到20‑40g;步骤2、固体培养基D的制作:固体培养基D的组分为土豆过滤液:蔗糖:琼脂=1000ml:20g:20g,土豆过滤液的制作方法为:将200 g已去皮的土豆切成薄片,放到1200 mL去离子水中煮沸30 min,用纱布过滤至1000 mL量筒中,用蒸馏水补足体积至1000 mL;步骤3、黑曲霉的培养:用接种环沾取黑曲霉孢子,在固体培养基上划线接种,将平板倒置在25℃恒温培养箱中,每天观察菌体生长情况,培养时间为3‑4 d;步骤4、黑曲霉孢子悬液的制备:在超净工作台中,用湿棉签沾取平板上的黑曲霉孢子至无菌水中,并用无菌水将其稀释为OD600=0.5的黑曲霉孢子悬液;步骤5、合果芋‑黑曲霉共生修复体系的建立:调整铀污染水体的pH至6‑7之间,按照每升铀污染水体种植20‑40 g合果芋,采用有机高分子材料制作浮岛固定合果芋,按黑曲霉孢子悬液0.5‑2mL:铀污染水体1L的比例注入黑曲霉孢子悬液,形成合果芋‑黑曲霉共生修复体系,修复时间为37 d,在不同的时间段检测含铀废水中的铀含量变化,37 d后将合果芋打捞上来;步骤6、后续处理:将打捞上来的合果芋进行干燥、粉碎、焚烧,再用浸出方法回收铀。
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