[发明专利]一种直写式光刻系统倾斜扫描拼接方法在审
申请号: | 201410513824.9 | 申请日: | 2014-09-29 |
公开(公告)号: | CN104281013A | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 陈修涛;王新旺;刘涛;朱晓飞 | 申请(专利权)人: | 天津津芯微电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 闫俊芬 |
地址: | 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路1*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明是基于数字微镜(Digital Micromirror Device,DMD)的直写式光刻设备,提出了一种改善拼接效果的方法。现有直写式光刻设备采用倾斜扫描方式,造成DMD在左右两个方向均有两个未被利用的三角区域,通过三角区域填充有效图,结合DMD前后有64个无镜片的CMOS物理特性,这样会在相邻条带边沿处产生灰度叠加的效果,与现有技术相比较,改善了条带间的拼接,提高了图形质量,同时,提高了镜片的利用率,便于在产业上推广和应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 直写式 光刻 系统 倾斜 扫描 拼接 方法 | ||
【主权项】:
一种直写式光刻系统倾斜扫描拼接方法,其特征在于,所述方法包括:(1)设M代表DMD的实际利用行数,N代表倾斜因子,则DMD以水平方向artan(1/N)的角度倾斜安装;(2)根据倾斜因子N和DMD的实际行数M确定上位机在处理每个曝光条带数据的宽度1920+M/N,以及本条带与下一个条带之间数据重合部分的宽度M/N,同时上位机会向下位机发送每个曝光条带的实际有效宽度S;(3)在倾斜扫描中,下位机每隔N行,数据向右移一位,当前位补零,数据在移动之后,溢出镜片位置的部分数据,在下一条带重新发送;(4)下位机按照接收到所述曝光条带的实际有效宽度S,所述S以内的数据与1相与运算,所述S以外的数据与0相与运算。其中,所述上位机需要对相邻两个曝光条带重合的数据进行重复发送,重复发送的数据宽度为M/N。
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