[发明专利]一种PVD与HIPIMS工业化制备超硬DLC碳涂层方法及装置在审
申请号: | 201410513053.3 | 申请日: | 2014-09-29 |
公开(公告)号: | CN105441871A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 邢延征 | 申请(专利权)人: | 苏州克里福迪纳米科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/22;C23C14/35 |
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地址: | 215126 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种PVD与HIPIMS工业化制备超硬DLC碳涂层方法及装置,包括涂层室、真空腔体、操作控制器、UBM、HIPIMS、工件基体、中心阳极、真空机械泵、分子泵、冷热水控制箱、功能气体分配箱、腔体加热器、三维旋转架、电源系统、HIPIMS磁过滤器;所述涂层室包括真空腔体,所述真空腔体为八面体双层结构,所述真空腔体的顶部设有中心阳极,所述真空腔体的底面设有三维旋转架和工件基体,所述真空腔体内设有UBM和HIPIMS,所述真空腔体内部设有腔体加热器;所述电源系统集成为一体式电源柜,所述电源柜上方设置为操作控制器;本发明利用PVD与HIPIMS技术,制备超高硬度,高耐摩擦性能,高耐磨损性能和高自润滑性能类金刚石涂层。 | ||
搜索关键词: | 一种 pvd hipims 工业化 制备 dlc 涂层 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种PVD与HIPIMS工业化制备超硬DLC碳涂层装置,简称涂层装置,其特征在于,包括涂层室、真空腔体、操作控制器、前仓门、后仓门、非平衡磁控阴极、高功率脉冲磁控阴极、靶材挡板、工件基体、中心阳极、真空机械泵、分子泵、冷热水控制箱、功能气体分配箱、阴极靶材隔栅、腔体加热器、三维旋转架、靶材A电源柜、靶材B电源柜、靶材C电源柜、靶材D电源柜、HIPIMS电源柜、偏压电源柜、控制系统弱电柜、阳极电源、上下料运输车、运输车轨道、HIPIMS磁过滤器;所述高功率脉冲磁控阴极,简称为HIPIMS;所述非平衡磁控阴极,简称为UBM;所述涂层装置,由涂层室、操作控制器、真空机械泵、分子泵、冷热水控制箱、功能气体分配箱、腔体加热器、三维旋转架、电源系统、上下料装置组成;所述涂层室焊接固定在设备框架上,所述设备框架为矩形不锈钢方通焊接结构,所述涂层室包括真空腔体、前仓门、后仓门;所述真空腔体为八面体不锈钢筒形双层结构,所述前仓门和后仓门分别设置于所述真空腔体的前面和后面,所述前仓门和后仓门的截面为三折板式,所述前、后仓门跨度占用所述八面体的三个相邻面,所述前仓门通过铰链固定连接于所述真空腔体的右侧面下边缘上,所述后仓门通过铰链固定连接于所述真空腔体的右侧面上边缘上,所述前仓门和所述后仓门均向右侧开门设置,并与所述真空腔体密封连接;所述真空腔体的顶部中心设置有中心阳极,所述真空腔体的底面设置有三维旋转架,所述三维旋转架上设置有工件基体,所述真空腔体内部设置有四个UBM,所述四个UBM分别装配在所述真空腔体内八面体的左上面、左下面、右上面、右下面位置,所述UBM靠近内侧面设置,所述UBM前方设置有阴极靶材隔栅;所述真空腔体左侧面外面设置有HIPIMS,所述HIPIMS与所述真空腔体之间设置有HIPIMS磁过滤器;所述真空腔体内部上侧面和下侧面,各设置有一组腔体加热器;所述真空腔体右侧面设置有真空接口,所述真空接口通过管道与真空机械泵、分子泵连通,所述真空腔体的双层结构通过管道与冷热水控制箱连通,所述真空腔体底面开设有气体接口,所述气体接口与功能气体分配箱连通;所述电源系统包括靶材A电源柜、靶材B电源柜、靶材C电源柜、靶材D电源柜、HIPIMS电源柜、偏压电源柜、控制系统弱电柜、阳极电源;所述电源系统与所述操作控制器电气连接,所述操作控制器与所述四个UBM、HIPIMS、真空机械泵、分子泵、冷热水控制箱、功能气体分配箱、腔体加热器、三维旋转架驱动电机电气连接;所述前仓门外侧设置有上下料装置,所述上下料装置由上下料运输车和运输车轨道构成;所述电源系统集成为一体式电源柜,所述电源柜上方设置为操作控制器。
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