[发明专利]一种光束偏振度测量装置和方法有效
申请号: | 201410503691.7 | 申请日: | 2014-09-25 |
公开(公告)号: | CN104296875B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 刘卫静;李斌诚;邢廷文;林妩媚 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G01J4/00 | 分类号: | G01J4/00 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司11251 | 代理人: | 杨学明,顾炜 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种光束偏振度测量装置和方法,该测量装置由光学元件基片,转台和两个光束强度探测器组成,光学元件位于转台上,待测光入射至光学元件基片上,通过转台调节光束入射角,测量光学元件在不同入射角时的反射和透射光强度,根据菲涅耳公式推算得到入射光束的偏振度。本发明具有测量方法和装置简单,成本低,并且测量精度高,应用范围广等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 光束 偏振 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种光束偏振度测量装置,其特征在于,该测量装置包括光学元件(1),角度控制器(2),第一光强度探测器(3),第二光强度探测器(4)和数据处理系统(5);所述光学元件(1)安装在角度控制器(2)上,通过角度控制器(2)调节待测光束的入射角度,由第一光强度探测器(3)和第二光强度探测器(4)分别测量经光学元件(1)透射和反射的光束强度,分别用ET和ER表示;数据处理系统(5)对测量结果进行处理得到入射光偏振度信息;所述的光学元件(1)选择能够反射和透射待测光的光学基片,对待测光的吸收和散射损耗已知,光学基片是3mm厚,光学基片尺寸大于待测光入射至光学元件(1)上的光斑尺寸的三倍。
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