[发明专利]一种新型结构太阳电池及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201410447706.2 申请日: 2014-09-04
公开(公告)号: CN104377253A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 金井升;蒋方丹;金浩;郭俊华;陈康平 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0216;H01L31/068;H01L31/18
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 吴关炳
地址: 314416 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种新型结构太阳电池及其制作方法,包括正面导电电极、减反射膜层、n++发射极、p硅基底、p+背面电场、背场和背面电极,在所述减反射膜层上设有透明导电膜层。其步骤如下:选取p型晶体硅片,进行表面织构化;进行磷轻扩散形成n+层;进行背面刻蚀,并去除硅片上的磷硅玻璃;在n+层上沉积减反射膜;在减反射膜上进行局部开膜;在已开膜的减反射膜上制备透明导电膜层;在背面印刷背面电极和背面场;经烧结形成背面金属与硅片之间的欧姆接触;在透明导电膜层上制备导电电极,完成太阳电池的制备。本发明在减反射层上叠加了透明导电膜层,能使复合膜层的减反射效果更佳,提升太阳电池的短路电流,提高电池效率。
搜索关键词: 一种 新型 结构 太阳电池 及其 制作方法
【主权项】:
一种新型结构太阳电池,包括正面导电电极(1)、减反射膜层(3)、n++发射极(4)、p硅基底(5)、p+背面电场(6)、背场(7)和背面电极(8),其特征在于:在所述减反射膜层(3)上设有透明导电膜层(2)。
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