[发明专利]聚酰亚胺薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201410442579.7 | 申请日: | 2014-09-02 |
公开(公告)号: | CN104151823B | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 付饶;刘洋;张海洋;许杨;靳野;郭百灵 | 申请(专利权)人: | 长春聚明光电材料有限公司;付饶 |
主分类号: | C08L79/08 | 分类号: | C08L79/08;C08J5/18;C08G73/10 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 130103 吉林省长*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: |
本申请提供了一种聚酰亚胺薄膜,由包括式I所示的第一重复单元的聚合物制得。本申请还提供了聚酰亚胺薄膜的两种制备方法,均以二苯硫醚二酐作为二酐单体,以2,2'‑双三氟甲基‑4,4'‑二氨基联苯作为二胺单体,合成制备聚酰亚胺薄膜。二苯硫醚二酐的硫醚键电负性较弱,吸电子能力弱,且能使聚合物主链弯曲,因此二苯硫醚二酐具有减少聚酰亚胺分子中电荷转移络合物形成的作用。同时,2,2'‑双三氟甲基‑4,4'‑二氨基联苯在联苯的2,2'‑位引入了三氟甲基取代基,产生非共面结构,可以减弱共轭单元。这两种单体合成简单,成本较低。所以,所述聚酰亚胺薄膜可见光透过率较高、热性能和机械性能优异,且生产成本低。 |
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搜索关键词: | 聚酰亚胺 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚酰亚胺薄膜,由聚合物制得,所述聚合物包括式I所示的第一重复单元:
式I中,硫醚键两端同时在3‑位;所述聚合物的数均分子量为50000~150000,所述聚酰亚胺薄膜厚度为10~100μm;所述聚合物还包括式II所示的第二重复单元:
式II中,硫醚键在3‑位或4‑位;X1为除2,2'‑双三氟甲基‑4,4'‑二氨基联苯之外的对位芳香二胺脱掉两端氨基的基团。
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