[发明专利]鳍式场效应管的形成方法

摘要

一种鳍式场效应管的形成方法，包括：提供衬底，第一区域衬底表面形成有第一初始鳍部，第二区域衬底表面形成有第二初始鳍部，所述第一初始鳍部和第二初始鳍部顶部表面晶面为(100)，所述第一初始鳍部和第二初始鳍部侧壁表面晶面为(110)；形成覆盖于第一初始鳍部顶部表面和侧壁表面的掩膜层；刻蚀去除部分厚度的第二初始鳍部，形成具有第二高度的第二鳍部，且在刻蚀过程中，第二初始鳍部侧壁表面被表面活性剂所覆盖，在第二初始鳍部侧壁表面形成表面活性剂膜；去除表面活性剂膜以及掩膜层。本发明在形成具有不同高度的鳍部的同时，防止鳍部的宽度尺寸偏离预定目标，防止刻蚀工艺对鳍部宽度尺寸造成不良影响。

主权项

1.一种鳍式场效应管的形成方法，其特征在于，包括：提供具有第一区域和第二区域的衬底，所述第一区域衬底表面形成有第一初始鳍部，所述第二区域衬底表面形成有第二初始鳍部，所述第一初始鳍部和第二初始鳍部具有第一高度，所述第一初始鳍部和第二初始鳍部顶部表面晶面为(100)，所述第一初始鳍部和第二初始鳍部侧壁表面晶面为(110)；形成覆盖于第一初始鳍部顶部表面和侧壁表面的掩膜层；以所述掩膜层为掩膜，刻蚀去除部分厚度的第二初始鳍部，形成具有第二高度的第二鳍部，且在刻蚀过程中，第二初始鳍部侧壁表面被表面活性剂所覆盖，在第二初始鳍部侧壁表面形成表面活性剂膜，所述晶面(110)对表面活性剂的吸附能力大于晶面(100)对表面活性剂的吸附能力；采用湿法刻蚀工艺刻蚀去除部分厚度的第二初始鳍部，且湿法刻蚀的刻蚀液体中溶解有表面活性剂；所述湿法刻蚀工艺对晶面(100)的刻蚀速率大于对晶面(110)的刻蚀速率；去除所述表面活性剂膜以及掩膜层，第一初始鳍部为具有第一高度的第一鳍部。