[发明专利]基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法

摘要

本发明提供了一种基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法。该反向散射截面测量方法包括：在所选定的频率范围内，收发天线以预设的步进频率沿设定的扫描线迹进行扫描，由矢量网络分析仪获得线迹散射测量点上放置待测目标前后的散射测量数据；对线迹散射测量点上放置待测目标前后的散射测量数据进行背景对消；选取最优聚焦的散射图像P；由最优聚焦的二维散射图像P提取目标的有效散射系数将待测目标更换为定标体，获得定标体的有效散射系数计算出待测目标的真实目标雷达散射截面RCS值。本发明既能得到目标的散射图像，又能得到目标的RCS值，能够更清晰、更具体、更全面地获得目标的电磁散射特征。

主权项

一种基于线迹扫描二维近场成像的反向散射截面测量方法，其特征在于，包括：步骤A：将收发天线、信号源和矢量分析仪相连接，在收发天线中，发射天线和接收天线之间采用环形器进行信号隔离；步骤B：在所选定的频率范围内，收发天线以预设的步进频率沿设定的扫描线迹进行扫描，由矢量网络分析仪获得线迹散射测量点上放置待测目标前后的散射测量数据；步骤C：对线迹散射测量点上放置待测目标前后的散射测量数据进行背景对消，得到背景对消后待测目标的真实散射测量数据；步骤D：在预设的取值范围和取值间隔内取T个相位差，利用该T个相位差分别对背景对消后待测目标的真实散射测量数据进行相位补偿，并进行成像，从而得到T个散射图像，从该T个散射图像中选取最优聚焦的散射图像P；步骤E：由最优聚焦的二维散射图像P提取目标的有效散射系数其中，s取值范围是[1，N×M]，N×M为二维散射图像P中等效散射点的个数；步骤F：将待测目标更换为定标体，重复步骤B、C、D、E，获得定标体的有效散射系数以及步骤G：利用已知的定标体雷达散射截面RCS值进行校准，根据待测目标的有效散射系数及定标体的有效散射系数计算出待测目标的真实目标雷达散射截面RCS值。