[发明专利]掩模版及其形成方法

摘要

一种掩模版及其形成方法，其中掩模版的形成方法包括：提供基板，基板包括透光板和非透光膜；在非透光膜中写入布局图案，布局图案包括密集型图案和孤立型图案，密集型图案包括平行排列的若干第一条形线，孤立型图案包括平行排列的若干第二条形线；在相邻两第二条形线之间具有至少一个亚分辨率辅助图案，亚分辨率辅助图案包括条形图案、位于条形图案沿长度方向的侧壁的若干间隔分布的凸部，条形图案与第二条形线平行；使用清洗剂清洗写入过程中产生的杂质；对掩模版进行甩干以去除残留清洗剂。凸部增强了整个亚分辨率辅助图案在透光板上的附着力，在甩干清洗剂的过程中，这降低了亚分辨率辅助图案倾斜甚至从透光板上脱落的可能性。

主权项

1.一种掩模版的形成方法，其特征在于，包括：提供基板，所述基板包括透光板、位于所述透光板上的非透光膜；在所述非透光膜中写入布局图案以形成掩模版，所述布局图案包括密集型图案和孤立型图案，所述密集型图案包括平行排列的若干第一条形线，所述孤立型图案包括平行排列的若干第二条形线；在相邻两第二条形线之间具有至少一个亚分辨率辅助图案，所述亚分辨率辅助图案包括条形图案、位于所述条形图案沿长度方向的侧壁的若干间隔分布的凸部，所述条形图案与第二条形线平行；当相邻两第二条形线之间具有至少两个亚分辨率辅助图案时，在相邻两亚分辨率辅助图案中，沿所述第二条形线的宽度方向，其中一亚分辨率辅助图案的凸部与另一亚分辨率辅助图案相邻两凸部之间的条形图案部分相对；使用清洗剂清洗所述写入过程产生的杂质；对所述掩模版进行甩干以去除残留的清洗剂。