[发明专利]光学装置及其制造方法有效
申请号: | 201410404024.3 | 申请日: | 2014-08-18 |
公开(公告)号: | CN104425632B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 三宅高史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | H01L31/0203 | 分类号: | H01L31/0203;H01L27/146 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 林振波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了光学装置及其制造方法。该方法包括在基板上方布置光敏器件,在光敏器件和基板之间设置粘合剂;通过使粘合剂固化来形成把基板和光敏器件结合起来的结合部件;在光敏器件上方布置透明板和密封部件;密封部件覆盖光敏器件并位于透明板和基板之间;结合部件的弹性模量为1GPa以下。 | ||
搜索关键词: | 光学 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种制造光学装置的方法,包括:在基板上方布置光敏器件,在光敏器件和基板之间设置有粘合剂;在布置了光敏器件之后通过使粘合剂固化来形成把基板和光敏器件结合起来的结合部件;和在光敏器件上方布置透明板和密封部件,密封部件覆盖光敏器件并位于透明板和基板之间,其中,结合部件的弹性模量为1GPa以下,其中,密封部件的固化收缩率为2%以上、5%以下,并且,其中,密封部件的形成包括对密封剂进行第一紫外线照射和在第一紫外线照射后对密封剂进行第二紫外线照射,第二紫外线照射比第一紫外线照射强。
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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