[发明专利]CD-SEM装置的校正方法、应用CD-SEM装置的方法及CD-SEM装置有效

专利信息
申请号: 201410341944.5 申请日: 2014-07-17
公开(公告)号: CN105336635B 公开(公告)日: 2019-04-09
发明(设计)人: 卢子轩;王跃刚 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种CD‑SEM装置的校正方法、应用CD‑SEM装置的方法及CD‑SEM装置。其中校正方法包括:步骤S1、获取SEM图形并采用设置在CD‑SEM装置内部的图形特征尺寸检测单元对SEM图形进行在线检测,以获取SEM图形的第一特征尺寸T1;步骤S2、将SEM图形输出,并采用设置在CD‑SEM装置外部的图形特征尺寸检测装置对SEM图形进行脱线检测,以获取SEM图形的第二特征尺寸T2;步骤S3、计算第一特征尺寸T1和第二特征尺寸T2之间的差值,获取偏差值;步骤S4、对比偏差值与SEM图形的特征尺寸的允许误差范围,以调整CD‑SEM装置各运行参数。上述校正方法能改善CD‑SEM装置的检测准确性。
搜索关键词: cd sem 装置 校正 方法 应用
【主权项】:
1.一种CD‑SEM装置的校正方法,其特征在于,所述校正方法包括:步骤S1、获取SEM图形并采用设置在所述CD‑SEM装置内部的图形特征尺寸检测单元对所述SEM图形进行在线检测,以获取所述SEM图形的第一特征尺寸T1;步骤S2、将所述SEM图形输出,采用设置在所述CD‑SEM装置外部的图形特征尺寸检测装置对所述SEM图形进行脱线检测,以获取所述SEM图形的第二特征尺寸T2;步骤S3、计算所述第一特征尺寸T1和所述第二特征尺寸T2之间的差值,获取偏差值;步骤S4、对比所述偏差值与所述SEM图形的特征尺寸的允许误差范围,如果所述偏差值超出所述SEM图形的特征尺寸的允许误差范围,则调整所述CD‑SEM装置各运行参数;以及重复步骤S1到步骤S4至所述偏差值位于所述SEM图形的特征尺寸的允许误差范围内;所述在线检测采用图形特征尺寸多次测量方法,所述脱线检测采用图形特征尺寸单次测量方法;所述图形特征尺寸多次测量方法中,在所述SEM图形上选取至少2~10组测量组,每组测量组中包括距离相等的2个测量点,获取与各所述测量点相应的信号,对应地将一组所述测量组中2个测量点所对应的信号之间的距离作为该组测量组的测量值,并将各所述测量值的平均值作为第一特征尺寸T1。
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