[发明专利]一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法

摘要

本发明公开了一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法，该方法包括如下步骤：1.配制PVC光刻胶；2.布片预处理；3.设计掩膜；4.将PVC光刻胶均匀涂于布片上，经过前烘后，把布片放置于载片平台，掩膜对准，进行紫外曝光；后烘，再将涂胶布片放到丁酮中显影，再放到丙酮中漂洗，用纯净水冲洗后，用SDS溶液洗涤，再用纯净水冲洗；烘干，得到布基微流控芯片。相比于图案蜡模法、纺织法加工，本制备方法能够在布基微流控芯片上加工出高分辨率的疏水区和亲水区，芯片上亲水通道宽度低至500微米，疏水坝宽度低至100微米，高通量、精度高、加工检测效率高。

主权项

一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法，其特征在于包括如下步骤：(1)配制聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶将5‑50％PVC溶解于49.0‑94.9％环己酮中，搅匀，然后加入0.1‑1.0％5‑硝基苊，搅匀，得到PVC光刻胶，转移到棕色瓶中，避光放置待用；所述的百分比是各原料占光刻胶原料总质量的百分比；(2)布片预处理将纯棉布片在20％NaOH溶液中浸泡5min，取出后用纯净水清洗，然后将布片绷紧以施加张力；绷紧后的纯棉布片用十二烷基硫酸钠洗涤、清水冲洗；接着，用1％冰乙酸溶液中和布片上残留的少量NaOH，最后用清水洗净，烘干；(3)掩膜的设计通过Adobe Illustrator CS4软件来设计布基微流控芯片的掩膜图案，掩膜设计有对准标记；用激光打印机打印掩膜图案的AI文件，得到曝光掩膜；(4)布基微流控芯片紫外光刻加工预处理的布片悬空绷紧，将PVC光刻胶均匀涂于布片上；涂胶布片在80℃烘烤20min，完成前烘；待冷却后，把布片放置于载片平台，掩膜对准，进行紫外曝光；曝光后将涂胶布片在95℃烘烤2min，完成后烘；冷却后，将涂胶布片放到丁酮中摇晃浸泡完成显影；然后，将其放到丙酮中摇晃浸泡完成漂洗；此后，用纯净水冲洗，再用3％SDS溶液洗涤，再次用纯净水冲洗；最后，把布片烘干、冷却，得到布基微流控芯片。