[发明专利]一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法

权利要求书

1.一种基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法，其特征在于包括如下步骤：

(1)配制聚乙烯醇肉桂酸酯光刻胶

将5-50％PVC溶解于49.0-94.9％环己酮中，搅匀，然后加入0.1-1.0％5-硝基苊，搅匀，得到PVC光刻胶，转移到棕色瓶中，避光放置待用；所述的百分比是各原料占光刻胶原料总质量的百分比；

(2)布片预处理

将纯棉布片在20％NaOH溶液中浸泡5min，取出后用纯净水清洗，然后将布片绷紧以施加张力；绷紧后的纯棉布片用十二烷基硫酸钠洗涤、清水冲洗；接着，用1％冰乙酸溶液中和布片上残留的少量NaOH，最后用清水洗净，烘干；

(3)掩膜的设计

通过Adobe Illustrator CS4软件来设计布基微流控芯片的掩膜图案，掩膜设计有对准标记；用激光打印机打印掩膜图案的AI文件，得到曝光掩膜；

(4)布基微流控芯片紫外光刻加工

预处理的布片悬空绷紧，将PVC光刻胶均匀涂于布片上；涂胶布片在80℃烘烤20min，完成前烘；待冷却后，把布片放置于载片平台，掩膜对准，进行紫外曝光；曝光后将涂胶布片在95℃烘烤2min，完成后烘；冷却后，将涂胶布片放到丁酮中摇晃浸泡完成显影；然后，将其放到丙酮中摇晃浸泡完成漂洗；此后，用纯净水冲洗，再用3％SDS溶液洗涤，再次用纯净水冲洗；最后，把布片烘干、冷却，得到布基微流控芯片。

2.根据权利要求1所述的基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，PVC的用量占15％，环己酮的用量占84.7％，5-硝基苊的用量占0.3％，所述的百分比是各原料占光刻胶原料总质量的百分比。

3.根据权利要求1所述的基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法，其特征在于：

所述的掩膜图案是以下中的一种：

A、掩膜图案的基本单位是一个几何图形；

B、掩膜图案的基本单位是两个几何图形，其间由线条连接；

C、掩膜图案的基本单位是一个复杂流路，该复杂流路由多个小的几何图形通过线条与一个大的几何图形连接，这些小的几何图形之间不连接；

D、掩膜图案的基本单位是A、B或C中的两种以上；

所述的几何图形可以是圆形、三角形、矩形或星形中的一种以上。

4.根据权利要求1所述的基于紫外光刻技术的布基微流控芯片制备方法，其特征在于：步骤(4)所述的紫外曝光是在400W紫外曝光系统下曝光3min。

5.一种布基微流控芯片，其特征在于：是由权利要求1-4任一项所述的方法制备得到。

6.权利要求5所述的布基微流控芯片在分析检测中的应用。

7.权利要求5所述的布基微流控芯片在检测尿液葡萄糖中的应用。