[发明专利]一种机构密封圈的在轨擦拭装置及擦拭方法有效
| 申请号： | 201410339119.1 | 申请日： | 2014-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN104138856A | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 白燕;史秀萍;姚旗;韩建超;赵健;李光 | 申请（专利权）人： | 北京卫星制造厂 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;C11D7/60;C11D7/32 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 陈鹏 |
| 地址： | 100190*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种机构密封圈的在轨擦拭装置，包括清洁布和密封袋，所述的清洁布折叠封装于所述的密封袋中，所述的清洁布上浸有清洁液，所述的清洁液由醋酸洗必泰粉末和去离子水两种组分按照1：(115～125)的质量比配置而成。利用该擦拭装置对航天机构的密封圈进行擦拭时，每下擦拭1/3密封圈圆周的距离，每个密封面至少擦拭两次。本发明装置及方法可广泛适用于多种飞船、空间站密封面、设备仪器、仪表的擦拭和清洁，由于其无毒、无害的材质配制，清洁液能够抑制多种细菌类再生，也可用于航天员手部消毒处理等，具有很强的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 机构 密封圈 擦拭 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种机构密封圈的在轨擦拭装置，其特征在于：包括清洁布和密封袋，所述的清洁布折叠封装于所述的密封袋中，所述的清洁布上浸有清洁液，所述的清洁液由醋酸洗必泰粉末和去离子水两种组分按照1：(115～125)的质量比配置而成。
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