[发明专利]一种机构密封圈的在轨擦拭装置及擦拭方法有效
| 申请号： | 201410339119.1 | 申请日： | 2014-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN104138856A | 公开（公告）日： | 2014-11-12 |
| 发明（设计）人： | 白燕;史秀萍;姚旗;韩建超;赵健;李光 | 申请（专利权）人： | 北京卫星制造厂 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;C11D7/60;C11D7/32 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 陈鹏 |
| 地址： | 100190*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 机构 密封圈 擦拭 装置 方法 | ||
1.一种机构密封圈的在轨擦拭装置，其特征在于：包括清洁布和密封袋，所述的清洁布折叠封装于所述的密封袋中，所述的清洁布上浸有清洁液，所述的清洁液由醋酸洗必泰粉末和去离子水两种组分按照1：(115～125)的质量比配置而成。
2.根据权利要求1所述的一种机构密封圈的在轨擦拭装置，其特征在于：所述的醋酸洗必泰粉末和去离子水两种组分的质量比为1：120。
3.根据权利要求1或2所述的一种机构密封圈的在轨擦拭装置，其特征在于：所述的密封袋为三层材料的膜结构，里膜为聚乙烯膜，中间膜为聚酯镀铝，外膜为聚丙烯膜。
4.根据权利要求1或2所述的一种机构密封圈的在轨擦拭装置，其特征在于：所述的清洁布的材料为防静电纤维洁净布，线密度为0.1～0.2D。
5.一种机构密封圈的在轨擦拭方法，其特征在于包括如下步骤：
(1)采用醋酸洗必泰粉末和去离子水两种组分按照1：(115～125)的质量比配置清洁液，并保证清洁液的PH值为7～8，电导率不大于0.1μs/cm；
(2)加工密封袋；
(3)吸取10±0.1g的清洁液装入密封袋中；
(4)选取防静电超细纤维洁净布作为载液片材，将载液片材折叠后放入装有清洁液的密封袋中；
(5)排除密封袋内的空气，并对密封袋进行密封；
(6)将密封好的密封袋存放于航天器上，航天器在轨后，由航天员从密封袋中取出浸有清洁液的清洁布，对航天机构的密封圈进行擦拭。
6.根据权利要求5所述的一种机构密封圈的在轨擦拭方法，其特征在于：所述的醋酸洗必泰粉末和去离子水两种组分的质量比为1：120。
7.根据权利要求5或6所述的一种机构密封圈的在轨擦拭方法，其特征在于：所述的密封袋为三层材料的膜结构，其中里膜为聚乙烯膜，中间膜为聚酯镀铝，外膜为聚丙烯膜。
8.根据权利要求5或6所述的一种机构密封圈的在轨擦拭方法，其特征在于：所述的清洁布的材料为防静电超细纤维洁净布，线密度为0.1～0.2D。
9.根据权利要求5或6所述的一种机构密封圈的在轨擦拭方法，其特征在于：所述的步骤(6)中对航天机构的密封圈进行擦拭时，每下擦拭1/3密封圈圆周的距离，每个密封面至少擦拭两次。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京卫星制造厂，未经北京卫星制造厂许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410339119.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型安全网清洗方法及其装置
- 下一篇：一种从滑石矿中分离杂石的方法
