[发明专利]一种含有磨料的适用于金属的混合抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 201410308710.0 | 申请日： | 2014-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN104130714A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 肖宪书;文庆华;张俊 | 申请（专利权）人： | 蚌埠市高华电子有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 余成俊 |
| 地址： | 233000 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种含有磨料的适用于金属的混合抛光液，其特征在于，由下列重量份的原料制成：氧化铝3-5、氧化铈8-10、碳化硅2-4、水杨酸钠1-2、硝酸钾4-6、咪唑啉3-5、硬脂酸钠3-5、聚二甲基硅氧烷2-4、冰醋酸3-5、蛋氨酸1-2、助剂5-7、去离子水300；本发明通过添加表面活性剂等成分对碳化硅等磨粒制备时进行改性，从而获得较高的抛光速率；添加助剂，具有良好的耐磨、分散、润滑、成膜性，在工件表面就形成一个阻隔空气层，可以阻止空气腐蚀；本发明抛光液属于水基抛光液，能大幅降低抛光时摩擦产生的温度，避免材料表面发生烧伤现象，适合铜、钢铁、不锈钢等金属。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含有 磨料 适用于 金属 混合 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种含有磨料的适用于金属的混合抛光液，其特征在于，由下列重量份的原料制成：氧化铝3‑5、氧化铈8‑10、碳化硅2‑4、水杨酸钠1‑2、硝酸钾4‑6、咪唑啉3‑5、硬脂酸钠3‑5、聚二甲基硅氧烷2‑4、冰醋酸3‑5、蛋氨酸1‑2、助剂5‑7、去离子水300；所述助剂由以下重量份的原料制成：三氧化二铝4‑6、纳米二氧化钛5‑7、硅酸钠1‑2、丙二醇甲醚醋酸酯3‑4、十二碳醇酯2‑3、丙烯酸甲酯2‑4、交联羧甲基纤维素钠2‑3、乳化剂BP4‑5、水50‑54；制备方法是首先将三氧化二铝、纳米二氧化钛、交联羧甲基纤维素钠、乳化剂BP加入一半量的水中，研磨1‑2小时，然后缓慢加入其余剩余成分，缓慢加热至70℃‑80℃，在300‑500转/分条件下搅拌反应30‑50分钟，冷却至室温即得。
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