[发明专利]一种钼掺钠溅射靶材的制备方法

摘要

本发明公开的一种钼掺钠溅射靶材的制备方法，步骤如下：将高纯钼粉及钼酸钠粉末混合球磨后，加入PVA充分研磨获得混合粉末；用冷等静压方式将混合粉末均匀压制成靶坯；将靶坯封入真空石英管内，置于马弗炉中采用多段升温的方式烧结；机械加工获得钼掺钠溅射靶材。本发明采用先将靶坯封入真空石英管中再进行烧结的方法，既避免了如真空热压机等大型设备的使用，又可以将多个封有靶坯的真空石英管同一批次烧结处理，极大的节约了能源，降低了成本。此外，本发明采用多段升温的方式，使得靶坯中由PVA引入的C、H及O元素得到充分释放。本发明的方法工艺简单、能耗少且成本较低，Na的掺入含量可在较大范围内进行调控，有利于产业化的应用。

主权项

一种钼掺钠溅射靶材的制备方法，其特征在于步骤如下：1）备料：按摩尔比1～46:1称取纯钼粉与纯钼酸钠粉末作为原料，其中钼粉的粒度为5～10μm，钼酸钠的粒度为20～100μm； 2）磨粉：将步骤1）称取的钼粉与钼酸钠粉末混合，在高能球磨机中进行球磨2～10h，球料比为5～20:1；在球磨后的粉末中加入PVA，PVA质量为球磨后粉末质量的0.1～1%，充分研磨至混合均匀，形成钼钠合金粉末；3）冷等静压压制：将步骤2）的钼钠合金粉末置于模具中，在20～200MPa的压力下，用压力机压制5～60m；再将模具旋转180°，在20～200MPa的压力下，再压制5～60m；压力除去后，将压制成型的靶坯取出；4）烧结：将步骤3）的靶坯放入石英管中，并抽真空至0.01～0.1Pa，封管，将封有靶坯的真空石英管放入马弗炉内，升温至500℃并保温1～5h，再从500℃升温到800～1100℃，保温8～20h，之后随炉冷却至室温，升温速率控制在1～10℃/min；得到钼掺钠溅射靶材。