[发明专利]一种反应腔

摘要

本发明提供一种反应腔，所述反应腔包括腔室主体，所述反应腔还包括支撑筒和至少一个托盘，所述支撑筒设置在所述腔室主体内，所述托盘设置在所述支撑筒的侧壁的外侧，所述托盘能够用于放置基片，所述支撑筒和所述托盘为导体，且所述支撑筒与所述托盘之间绝缘且导热。本发明能够使得MOCVD工艺中托盘对基片加热时的温度场更加均匀，从而能够克服温度场不均导致的基片上的沉积薄膜不均匀的问题。

主权项

1.一种反应腔，所述反应腔包括腔室主体，其特征在于，所述反应腔还包括支撑筒和至少一个托盘，所述支撑筒设置在所述腔室主体内，所述托盘设置在所述支撑筒的侧壁的外侧，所述托盘能够用于放置基片，所述支撑筒和所述托盘为导体，且所述支撑筒与所述托盘之间绝缘且导热，所述支撑筒与所述托盘通过感应加热的方式进行加热。