[发明专利]一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置有效
申请号: | 201410285425.1 | 申请日: | 2014-06-24 |
公开(公告)号: | CN104035290A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 傅新;陈文昱;徐文苹;马颖聪;童章进 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置。包括在投影物镜组和硅片之间安装的气密封及气液隔离装置,其包括浸没单元下端盖和基体;浸没单元下端盖上开有中心锥孔、镜头注液口、镜头回收口、气液分离腔、第二级回收腔、气体注入腔,流场多级缓冲结构、气体缓冲槽以及内、中、外密封槽;浸没单元基体上开有中心通孔、镜头注液腔、镜头回收腔、气体回收腔、基体第二级回收腔、基体气体注入腔和液体回收腔。本发明中的镜头回收结构可回收光刻过程中产生的大量废液,实现流场的快速更新;两级多孔结构可回收液体,维持流场边界的稳定,实现气液分离以及实现流场的初步密封;并采用气密封结构防止液体泄漏。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 浸没 光刻 密封 两级 多孔 回收 装置 | ||
【主权项】:
一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置,包括在浸没式光刻机中的投影物镜组(1)和硅片(3)之间安装的气密封及气液隔离装置(2),其特征在于:气密封及气液隔离装置(2)包括浸没单元下端盖(2A)、浸没单元基体(2B);其中:1)浸没单元下端盖(2A):在浸没单元下端盖(2A)开有中心锥孔,中心锥孔的小端位于浸没单元下端盖(2A)下表面,中心锥孔大端锥面与浸没单元下端盖(2A)上表面之间两侧对称开有弧形槽口结构的镜头注液口(4A)和镜头回收口(5A),浸没单元下端盖(2A)上表面从中心锥孔向外依次开有环形凹槽结构的气液分离腔(6A)、第二级回收腔(7A)和气体注入腔(8A),气液分离腔(6A)的环形凹槽底部间隔均布开有小孔,构成第一级多孔回收结构(12A);第二级回收腔(7A)的环形凹槽底部间隔均布开有小孔,构成第二级多孔回收结构(14A);气体注入腔(8A)的环形凹槽底部开有一圈沿圆周间隔均布的小孔,构成气密封通孔结构(15A),浸没单元下端盖(2A)下表面开有与气密封通孔结构(15A)相通的气密封环形槽(16A),气密封通孔结构(15A)与气密封环形槽(16A)共同构成下端盖的气密封结构;镜头注液口(4A)与气液分离腔(6A)之间、气液分离腔(6A)与第二级回收腔(7A)之间以及第二级回收腔(7A)与气体注入腔(8A)之间的浸没单元下端盖(2A)上表面分别开有环形槽结构的内密封槽(9A)、中密封槽(17A)、外密封槽(18A);第一级多孔回收结构(12A)靠近中心内侧的浸没单元下端盖(2A)下表面开有环形槽结构的流场多级缓冲结构(10A),第一级多孔回收结构(12A)和第二级多孔回收结构(14A)之间的浸没单元下端盖(2A)下表面开有环形槽结构的气体缓冲槽(13A);2) 浸没单元基体(2B):在浸没单元基体(2B)上开有与浸没单元下端盖(2A)中心锥孔相通的中心通孔,浸没单元基体(2B)下表面两侧对称开有弧形槽结构的镜头注液腔(4B)和镜头回收腔(5B),镜头注液腔(4B)和镜头回收腔(5B)分别与镜头注液口(4A)和镜头回收口(5A)相通,镜头注液腔(4B)和镜头回收腔(5B)分别经镜头注液通道(14B)以及镜头回收通道(15B)与外部的注液及液体回收系统相连通;浸没单元基体(2B)下表面从中心通孔向外依次开有环形槽结构的气体回收腔(6B)、基体第二级回收腔(8B)和基体气体注入腔(9B),气体回收腔(6B)的环形槽内两侧对称设有弧形槽结构的液体回收腔(7B);气体回收腔(6B)的环形槽口上设有挡板(12B),挡板(12B)上开有沿圆周间隔均布的腰形通槽(13B),腰形通槽(13B)的长度方向沿中心通孔径向方向,气体回收腔(6B)和液体回收腔(7B)之间的挡板(12B)上开有液体通口(10B),气体回收腔(6B)和液体回收腔(7B)之间通过液体通口(10B)相通,中心通孔两侧开有分别与镜头注液腔(4B)和镜头回收腔(5B)相通的弧形通槽;气体回收腔(6B)、基体第二级回收腔(8B)和基体气体注入腔(9B)分别与浸没单元下端盖(2A)的气液分离腔(6A)、第二级回收腔(7A)和气体注入腔(8A)对应相通;气体回收腔(6B)和液体回收腔(7B)通过浸没单元基体(2B)内部的通道分别与外界的气体回收系统和液体回收系统相连接,气体注入腔(9B)通过浸没单元基体(2B)内部的管道与外界的气体注入系统相连接。
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