[发明专利]一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置

权利要求书

1. 一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置，包括在浸没式光刻机中的投影物镜组(1)和硅片(3)之间安装的气密封及气液隔离装置(2)，其特征在于：气密封及气液隔离装置(2)包括浸没单元下端盖(2A)、浸没单元基体(2B)；其中：

1）浸没单元下端盖(2A)：

在浸没单元下端盖(2A)开有中心锥孔，中心锥孔的小端位于浸没单元下端盖(2A)下表面，中心锥孔大端锥面与浸没单元下端盖(2A)上表面之间两侧对称开有弧形槽口结构的镜头注液口（4A）和镜头回收口（5A），浸没单元下端盖(2A)上表面从中心锥孔向外依次开有环形凹槽结构的气液分离腔（6A）、第二级回收腔（7A）和气体注入腔（8A），气液分离腔（6A）的环形凹槽底部间隔均布开有小孔，构成第一级多孔回收结构（12A）；第二级回收腔（7A）的环形凹槽底部间隔均布开有小孔，构成第二级多孔回收结构（14A）；气体注入腔（8A）的环形凹槽底部开有一圈沿圆周间隔均布的小孔，构成气密封通孔结构（15A），浸没单元下端盖(2A)下表面开有与气密封通孔结构（15A）相通的气密封环形槽（16A），气密封通孔结构（15A）与气密封环形槽（16A）共同构成下端盖的气密封结构；

镜头注液口（4A）与气液分离腔（6A）之间、气液分离腔（6A）与第二级回收腔（7A）之间以及第二级回收腔（7A）与气体注入腔（8A）之间的浸没单元下端盖(2A)上表面分别开有环形槽结构的内密封槽（9A）、中密封槽（17A）、外密封槽（18A）；第一级多孔回收结构（12A）靠近中心内侧的浸没单元下端盖(2A)下表面开有环形槽结构的流场多级缓冲结构（10A），第一级多孔回收结构（12A）和第二级多孔回收结构（14A）之间的浸没单元下端盖(2A)下表面开有环形槽结构的气体缓冲槽（13A）；

2) 浸没单元基体（2B）：

在浸没单元基体（2B）上开有与浸没单元下端盖(2A)中心锥孔相通的中心通孔，浸没单元基体（2B）下表面两侧对称开有弧形槽结构的镜头注液腔（4B）和镜头回收腔（5B），镜头注液腔（4B）和镜头回收腔（5B）分别与镜头注液口（4A）和镜头回收口（5A）相通，镜头注液腔（4B）和镜头回收腔（5B）分别经镜头注液通道（14B）以及镜头回收通道（15B）与外部的注液及液体回收系统相连通；

浸没单元基体（2B）下表面从中心通孔向外依次开有环形槽结构的气体回收腔（6B）、基体第二级回收腔（8B）和基体气体注入腔（9B），气体回收腔（6B）的环形槽内两侧对称设有弧形槽结构的液体回收腔（7B）；

气体回收腔（6B）的环形槽口上设有挡板（12B），挡板（12B）上开有沿圆周间隔均布的腰形通槽（13B），腰形通槽（13B）的长度方向沿中心通孔径向方向，气体回收腔（6B）和液体回收腔（7B）之间的挡板（12B）上开有液体通口（10B），气体回收腔（6B）和液体回收腔（7B）之间通过液体通口（10B）相通，中心通孔两侧开有分别与镜头注液腔（4B）和镜头回收腔（5B）相通的弧形通槽；气体回收腔（6B）、基体第二级回收腔（8B）和基体气体注入腔（9B）分别与浸没单元下端盖(2A)的气液分离腔（6A）、第二级回收腔（7A）和气体注入腔（8A）对应相通；气体回收腔（6B）和液体回收腔（7B）通过浸没单元基体（2B）内部的通道分别与外界的气体回收系统和液体回收系统相连接，气体注入腔（9B）通过浸没单元基体（2B）内部的管道与外界的气体注入系统相连接。

2. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置，其特征在于：所述的气液分离腔（6A）中填充有多孔介质。

3. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置，其特征在于：所述的多孔介质为海绵或玻璃珠。

4. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置，其特征在于：所述的内密封槽（9A）、中密封槽（17A）和外密封槽（18A）中填充有密封填料。

5. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置，其特征在于：所述的密封填料为密封胶或O型圈。

6. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置，其特征在于：所述的浸没单元下端盖(2A)和浸没单元基体(2B)外部之间通过螺钉紧固连接。

7. 根据权利要求1所述的一种用于浸没式光刻机的气密封和两级多孔气液回收装置，其特征在于：所述的流场多级缓冲结构（10A）由多个环形槽构成。