[发明专利]一种铜基手性配位聚合物的光诱导对映选择性合成的方法有效
| 申请号： | 201410283879.5 | 申请日： | 2014-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN104059091A | 公开（公告）日： | 2014-09-24 |
| 发明（设计）人： | 吴舒婷;蔡振文;叶巧燕;翁陈浩;黄细河;胡晓琳;庄乃锋 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C07F1/08 | 分类号： | C07F1/08 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种铜基手性配位聚合物的光诱导对映选择性合成的方法，具体为：先合成铜基手性配位聚合物所需的反应液，然后将铜基手性配位聚合物的反应液置于光辐照装置中，光辐照3-5天，实现铜基手性配位聚合物的对映选择性合成。光辐照装置包括半导体激光器、偏振片、四分之一波片；通过调整偏振片与四分之一波片之间的夹角，能将出射光调整为左旋或右旋圆偏振光。圆偏振光辐照实验能有效的使本发明所尝试的手性配位聚合物结晶产物去消旋化，并实现对映选择性。本发明通过光诱导实现了手性配位聚合物的对映选择性合成。该方法具有良好的重现性，实验装置简单，可多次重复利用，合成过程清洁无污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 手性 配位聚合 光诱导 选择性 合成 方法 | ||
【主权项】：
一种铜基手性配位聚合物的光诱导对映选择性合成的方法，其特征在于：先制备合成铜基手性配位聚合物所需的反应液，然后将装有该反应液的比色皿置于光辐照装置中，光辐照3‑5天，实现铜基手性配位聚合物的对映选择性合成。
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