[发明专利]一种仿生双面受光太阳能电池的制作工艺

摘要

一种仿生双面受光晶硅太阳电池的制作工艺包括制绒，扩散，背面刻蚀，原子层沉积氧化铝，通氧退火，生长氮化硅，激光开膜，印刷，烧结等9个工序，原子层沉积的氧化铝薄膜用于钝化电池背面，热氧生成的氧化硅用于钝化电池正面，退火工艺同时完成了氧化铝薄膜的再构，正表面氧化层的形成以及发射结的进一步推进，背面采用铝栅线印刷代替传统的铝背场工艺，不仅增加了氧化铝的场钝化效果，提高了开路电压，而且背面叠层膜增加了长波光子在背面的反射，从而增加了晶硅电池的长波响应，另外，背面仿生树叶栅线结构有利于背面散射光子的收集，为双玻组件提供了优异的电池结构，同时美化了幕墙的室内环境。

主权项

一种仿生双面受光太阳能电池的制作工艺，采用以下顺序工艺步骤：步骤一，将晶硅硅片表面进行制绒，降低表面反射率；步骤二，将制绒后硅片进行通磷源和推进，本步骤只进行通源工序，不进行推进工序；步骤三，将扩散后硅片进行湿法刻蚀，去除背面N+层；步骤四，将湿法刻蚀后的硅片进行原子层沉积，使硅片背面生长一层氧化铝薄膜；步骤五，将原子层沉积后的硅片在高温管内进行通氧退火工艺，将氧化铝薄膜中的残留甲基去除，同时热氧化发射极的表面，同时完成推进工序，在硅片表面形成氧化硅钝化层；步骤六，将原子层沉积后的硅片进行板式等离子增强化学气相沉积，在双面生长氮化硅薄膜；步骤七，将生长完氮化硅的硅片进行激光划线，在硅片背面按照仿生图像将表面的氮化硅去除；步骤八，将激光加工后的硅片进行印刷，正面采用银柵线，背面采用铝栅线覆盖激光划线；步骤九，将印刷后的硅片进行烧结。