[发明专利]X射线光罩结构及其制备方法在审
申请号: | 201410269842.7 | 申请日: | 2014-06-17 |
公开(公告)号: | CN104460222A | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 许博渊 | 申请(专利权)人: | 许博渊 |
主分类号: | G03F1/22 | 分类号: | G03F1/22 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 王芝艳;邹宗亮 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本公开提供一种X射线光罩结构,包含一支撑基板,其为一体成型且具有至少一薄部,该至少一薄部由一墙部环绕;一顶层,设置于该支撑基板的该至少一薄部上,其中该顶层及该至少一薄部形成一堆叠薄膜;多个X射线吸收图案,设置于该至少一薄部上方的该顶层上;其中该至少一薄部及该墙部提供机械支撑予该顶层,且该堆叠薄膜提供机械支撑予该多个X射线吸收图案。本公开还提供一种X射线光罩结构的制备方法。本公开的X射线光罩结构由于采用该至少一薄部及墙部构成的一体成型的支撑基板,因而具有高精密度及高刚性。 | ||
搜索关键词: | 射线 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种X射线光罩结构的制备方法,包含:提供一支撑基板,具有一顶面及一底面;形成一顶层于该顶面及一底层于该底面,该底层具有一开口;局部去除该开口曝露的该支撑基板以形成至少一薄部于该支撑基板中;以及形成多个X射线吸收图案于该至少一薄部上方的该顶层上。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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