[发明专利]一种石墨烯图案化的方法及显示基板的制作方法有效
申请号: | 201410256945.X | 申请日: | 2014-06-10 |
公开(公告)号: | CN104022017B | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 舒适;吕志军;谷敬霞;石岳;张方振;孙冰;徐传祥 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/027 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明的实施例提供了一种石墨烯图案化的方法及显示基板的制作方法,涉及电子技术领域,可以避免现有技术中光刻胶材料剥离时导致石墨烯薄膜脱落或者光刻胶在石墨烯膜层上残留的不良的情况,能够在保证生产成本的情况下提高产品良率。该方法包括在石墨烯层上形成隔离层;在所述隔离层上形成光刻胶层;对所述光刻胶层进行图案化处理;按照图案化的光刻胶层对所述隔离层进行刻蚀形成图案化的隔离层;按照所述图案化的光刻胶层对所述石墨烯层进行刻蚀形成图案化的石墨烯层;将所述图案化的隔离层去除。本发明应用于电子设备中石墨烯图案化的方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 图案 方法 显示 制作方法 | ||
【主权项】:
一种石墨烯图案化的方法,包括:在石墨烯层上形成隔离层;所述形成隔离层包括:使用磁控溅射方法,在石墨烯层上制备一层厚度在1000埃至7000埃的金属薄膜层作为隔离层;所述隔离层的材料为金属材料;在所述隔离层上形成光刻胶层;对所述光刻胶层进行图案化处理;按照图案化的光刻胶层对所述隔离层进行刻蚀形成图案化的隔离层;按照所述图案化的隔离层对所述石墨烯层进行刻蚀形成图案化的石墨烯层;将所述图案化的隔离层去除;去除所述图案化的隔离层包括:采用化学置换将金属溶解,或者直接剥离;在石墨烯层上形成隔离层前,所述方法还包括:在树脂衬底上形成所述石墨烯层;所述将所述图案化的隔离层去除后形成带有所述图案化的石墨烯层的树脂薄膜;所述方法还包括:通过转印技术将所述树脂薄膜上所述图案化的石墨烯层转印至基板;将所述树脂薄膜上的树脂衬底去除。
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