[发明专利]一种光学水晶的生长方法无效
申请号: | 201410177265.9 | 申请日: | 2014-04-29 |
公开(公告)号: | CN103938264A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 余仙水;全鸣 | 申请(专利权)人: | 三明市港乐水晶电子有限公司 |
主分类号: | C30B7/10 | 分类号: | C30B7/10;C30B29/18 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 李雁翔 |
地址: | 353300 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种光学水晶的生长方法,其步骤如下:原料的清洗准备、高压釜及釜内辅件的清洗准备、按优化设计的时间-温度关系曲线升温28-30小时,再按优化设计的时间-温度关系曲线保温并控温115天,然后自然降温到100℃以下后开启高压釜。由于优化了各阶段的时间-升温曲线及优化了各个其他细节,提供的光学水晶的生长工艺相对更完善,使用效果更理想。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 水晶 生长 方法 | ||
【主权项】:
一种光学水晶的生长方法,其特征在于:其步骤如下:A、选取颗粒状天然石英石作培养体,将石英石置于洗衣粉中完全浸泡20‑24h,取出后用水冲洗,同时将含有伴生杂质的石英石及表皮矿石去除,再用去离子水冲洗一遍,将清洗好的石英石投入至高压釜下部;石英石在高压釜内的装填高度低于下组加热件所处的位置高度;向高压釜中加入高纯水;水晶长成重量与放入的石英石重量比应控制为1:1.25‑1.30;充填度宜为83%;B、将打好孔的籽晶片置于稀氢氟酸中浸泡4‑6h,把籽晶片在切割、打孔过程中产生的表面污染铁质清洗掉,然后置于超声波清洗机中将晶体表面的污垢清除干净,将籽晶悬挂在籽晶架上,同时在籽晶架上固定设有隔离板,隔离板上设有对流孔;装釜前对高压釜内壁、籽晶架、支撑架、隔离板用碱溶液进行清洗去除保护膜及油污,将釜口上的晶芽和密封面上的残留石墨纸清洗干净,将籽晶架装入高压釜内,密封高压釜;C、升温,保持高压釜内压力为135‑140MPa,采用温度程序控制装置自动控制高压釜升温,温度与时间之间的关系设置为:(1)、釜装好后到开始升温的间隔时间小于4h;(2)、釜上部温度控制为100℃,同时釜下部温度控制为110℃,本时间段时长设置为5‑6h;(3)、釜上部温度控制为250℃,釜下部温度控制为265℃,本时间段时长设置为14‑15h;(4)、釜上部温度控制为348‑350℃,釜上下部的温差控制为20℃,釜下部温度须高于釜上部温度,本时间段时长设置为9‑10h;时间到时达到升温平衡;(5)、以上各升温步骤过程中,如有产生窜温现象,要慢慢掀开釜外的保温被,让温度降到设定温度,防止结壳,防止产生雾状包裹体;D、保温并控温,升温平衡后,采用温度程序控制装置自动控制高压釜保温115天,其间温度与时间之间的关系设置为:(1)、釜上部温度控制为348‑350℃,釜上下部的温差控制为20℃,釜下部温度须高于釜上部温度,本时间段时长设置为20天;(2)、釜上部温度控制为345℃,釜上下部的温差控制为23‑25℃,釜下部温度须高于釜上部温度,本时间段时长设置为20天;(3)、釜上部温度控制为342℃,釜上下部的温差控制为26‑28℃,釜下部温度须高于釜上部温度,本时间段时长设置为20天;(4)釜上部温度控制为341℃,釜上下部的温差控制为26‑28℃,釜下部温度须高于釜上部温度,本时间段时长设置为10天;(5)以下的步骤为:釜上部温度控制为每过10天降低1℃,釜上下部的温差控制为26‑28℃,釜下部温度须高于釜上部温度,直到第115天釜上部温度降到334‑335℃;其间可根据窜温和压力情况同时降低釜下部温度;E、保温并控温到釜上部温度降到334‑335℃后停止保温控温,将釜内温度自然降至100℃以下后,将机油(加少许柴油)浇注入高压釜的螺纹处,开启高压釜。
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