[发明专利]一种BTS型栅SOI器件的建模方法有效
申请号: | 201410167764.X | 申请日: | 2014-04-24 |
公开(公告)号: | CN103955574B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 卜建辉;罗家俊;韩郑生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙)11370 | 代理人: | 朱海波 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种SOI MOS器件的建模方法,其中该SOI MOS器件为BTS型栅SOI MOS器件,该方法包括:a.提取所述MOS器件的模型参数,包括直流参数和交流参数;b.计算额外栅电容;c.以提取的MOS器件模型为基础,采用子电路模型,在栅和体之间加上额外的栅电容,生成最终模型。根据本发明提供的建模方法,考虑BTS型栅SOI器件中额外的山电容对器件的性能的影响,提高了模型的精确度,能够有效的运用于对BTS型栅SOI器件的仿真设计。 | ||
搜索关键词: | 一种 bts 型栅 soi 器件 建模 方法 | ||
【主权项】:
一种SOI MOS器件的建模方法,其中该SOI MOS器件为BTS型栅SOI MOS器件,该方法包括:a.提取所述MOS器件的模型参数,包括直流参数和交流参数,根据所提取的MOS管的交流参数,获得该MOS管的电容,根据MOS管的电容获取单位面积栅氧电容;b.计算额外栅电容;c.以提取的MOS器件模型为基础,采用子电路模型,在栅和体之间加上额外栅电容,生成最终模型。
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