[发明专利]抗蚀剂用聚合物以及包含该聚合物的抗蚀剂组合物

摘要

本发明涉及一种以下化学式1的抗蚀剂用聚合物以及含有该聚合物的抗蚀剂组合物，利用光刻技术形成图案时，特别是，通过NTD方式形成图案时，通过改善对有机显影液的溶解度，裕度以及分辨率得以改善，对于形成具有低LWR的抗蚀剂图案有用，另外，对比度的改善效果优异。化学式1在所述化学式1中，R₁至R₄、a和b分别如说明书定义。

主权项

一种具有以下化学式1所示结构的抗蚀剂用聚合物，其中，化学式1在所述化学式1中，R₁选自如下组中：氢原子；羟基；缩醛基；腈基；被选自由卤基、腈基、羟基、烷氧基、缩醛基、酰基、醛基、羧基以及酯基所组成的组中的一种以上取代基取代或未取代的碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为1～20的烷氧基、碳原子数为6～30的芳基、硅烷基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为3～30的环烷基以及环内包含至少一种选自由N、P、O以及S所组成的组中的杂原子的碳原子数为2～30的杂环基；以及它们的组合，R₂为碳原子数为1～20的烷氧基，R₃及R₄分别独立为选自由氢原子、碳原子数为1～20的烷基、碳原子数为1～20的卤代烷基、碳原子数为6～30的芳基、碳原子数为2～20的烯基、碳原子数为3～30的环烷基及其它们的组合所组成的组中，或者彼此结合形成在环内包含氧原子的杂环基，a和b在满足a+b＝1的条件下，0<a/(a+b)<1，0<b/(a+b)<1。