[发明专利]防尘薄膜组件以及安装该防尘薄膜组件的光掩模有效
申请号: | 201410163552.4 | 申请日: | 2014-04-22 |
公开(公告)号: | CN104111582B | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 関原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;王博 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种安装防尘薄膜组件后的光掩模的变形小,而且防尘薄膜组件的装卸容易,且可信性高的防尘薄膜组件以及安装该防尘薄膜组件的光掩模。本发明的防尘薄膜组件40为,由至少具有4个边的防尘薄膜组件框架10构成,在防尘薄膜组件框架10的至少4处的角部上,设置从光掩模70侧端面向设置防尘薄膜42的端面的阴螺纹11,另外,该防尘薄膜组件40的光掩模70侧的端面,设置弹性体层43。然后,此弹性体层43,在该防尘薄膜组件40被用连接部件101安装在光掩模70上的场合,被压扁,与光掩模70表面的接触宽为0.3~1.0mm的范围,由此,防尘薄膜组件40和光掩模70之间的密封性良好。 | ||
搜索关键词: | 防尘薄膜组件 光掩模 防尘薄膜组件框架 弹性体层 防尘薄膜 连接部件 可信性 密封性 阴螺纹 侧端 角部 压扁 装卸 变形 | ||
【主权项】:
一种防尘薄膜组件与光掩模的组合体,所述防尘薄膜组件安装至所述光掩模并且用具有至少4个边的防尘薄膜组件框架构成,所述防尘薄膜组件框架的至少4处的角部上,设置有从光掩模贴附侧的端面到设置有防尘薄膜的端面的阴螺纹孔,其特征在于:在所述防尘薄膜组件框架的光掩模贴附侧的端面上所述阴螺纹孔的位置内侧设置有弹性体层,在与所述阴螺纹孔对应的所述光掩模的位置上设置贯通孔,向所述贯通孔中插入先端部具有阳螺纹的连接部件,其中,所述连接部件由先端部、中间部和直径大于所述先端部和所述中间部的大直径部构成,其在所述先端部和所述中间部之间为具有与所述弹性体层附近的防尘薄膜组件框架接触的台阶部的圆棒形状,将所述连接部件的阳螺纹在所述阴螺纹孔上拧紧,按压所述弹性体层,从而将所述防尘薄膜组件安装至所述光掩模。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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