[发明专利]无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置在审
| 申请号： | 201410160647.0 | 申请日： | 2014-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN103945630A | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 刘景全;郭红磊;杜京城;王昭瑜;唐龙军;陈翔;杨斌;杨春生 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | H05H1/26 | 分类号： | H05H1/26 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 郭国中 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置，包括：绝缘圆柱、高压电极、绝缘微针、接地电极、高压低频率电压源和样品，其中：所述高压低频率电压源的高压端与所述高压电极连接、低压端与所述接地电极共地连接；所述绝缘圆柱外接所述绝缘微针和所述高压电极；所述接地电极设置在所述绝缘微针外壁处；所述绝缘微针的端部设置有喷嘴，在所述绝缘微针的喷嘴与所述样品之间存在线宽处于微米尺度的等离子体射流。本发明无需使用真空设备，无需掩膜板，结构简单，操作方便，制作成本低，能非常好地图形化聚合物薄膜，形成微结构，该装置在大规模柔性电子制备中具有很好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩膜 刻蚀 聚合物 薄膜 大气压 空气 等离子体 射流 装置 | ||
【主权项】：
一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置，其特征在于，包括：绝缘圆柱、高压电极、绝缘微针、接地电极和高压低频率电压源，其中：所述高压低频率电压源的高压端与所述高压电极连接，所述高压低频率电压源的低压端与所述接地电极共地连接；所述绝缘圆柱外接所述绝缘微针和所述高压电极；所述接地电极设置在所述绝缘微针外壁处；所述绝缘微针的针尖处设置有喷嘴，在所述绝缘微针的喷嘴与所述样品之间存在线宽处于微米尺度的等离子体射流。
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