[发明专利]无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置在审

专利信息
申请号: 201410160647.0 申请日: 2014-04-21
公开(公告)号: CN103945630A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 刘景全;郭红磊;杜京城;王昭瑜;唐龙军;陈翔;杨斌;杨春生 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H05H1/26 分类号: H05H1/26
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 郭国中
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 无掩膜 刻蚀 聚合物 薄膜 大气压 空气 等离子体 射流 装置
【权利要求书】:

1.一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,包括:绝缘圆柱、高压电极、绝缘微针、接地电极和高压低频率电压源,其中:所述高压低频率电压源的高压端与所述高压电极连接,所述高压低频率电压源的低压端与所述接地电极共地连接;所述绝缘圆柱外接所述绝缘微针和所述高压电极;所述接地电极设置在所述绝缘微针外壁处;所述绝缘微针的针尖处设置有喷嘴,在所述绝缘微针的喷嘴与所述样品之间存在线宽处于微米尺度的等离子体射流。

2.根据权利要求1所述的一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,所述的绝缘圆柱内部中空,绝缘圆柱的直径为4mm~20mm,空腔形状及大小可调整;绝缘圆柱的底面中心设有一个直径为0.5~4mm的连通空腔的圆孔,绝缘圆柱的顶部中心设有一个直径为50-500μm的连通空腔的圆孔;在顶部中心两侧设有多个直径为0.2mm~6mm的连通空腔的圆孔。

3.根据权利要求1所述的一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,所述的高压电极为直径为50-500μm的不锈钢电极、钨电极或铂电极。

4.根据权利要求1所述的一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,所述的绝缘微针的外径为0.5~6mm、内径为0.25~5mm,绝缘微针的喷嘴内径为5um~400μm。

5.根据权利要求1所述的一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,所述的接地电极为金属环,金属环下边缘位于高压电极尖端之上。

6.根据权利要求1所述的一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,所述的高压低频率电压源的频率为5kHz~60kHz、电压在0~50kV之间可调。

7.根据权利要求1-6任一项所述的一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,所述的样品由导电基底和聚合物薄膜组成,导电基底上形成一层聚合物薄膜。

8.根据权利要求1-6任一项所述的一种无掩膜刻蚀聚合物薄膜的大气压空气微等离子体射流装置,其特征在于,所述的装置使用空气作为工作气体,且无需使用供气设备。

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