[发明专利]一种在电子装置上连续进行真空镀防水膜的装置及方法无效
申请号: | 201410113096.2 | 申请日: | 2014-03-25 |
公开(公告)号: | CN103898480A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 侯光辉 | 申请(专利权)人: | 侯光辉 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54 |
代理公司: | 东莞市创益专利事务所 44249 | 代理人: | 李卫平 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及真空镀膜制作领域,尤其涉及一种真空镀防水膜的装置及方法。一种在电子装置上连续进行真空镀防水膜的装置,包括彼此依次连结的第一低真空室、等离子辉光清洗室、防水膜沉积室、氟化物沉积室和第二低真空室。依赖上述装置进行真空镀防水膜的方法,主要是通过一链条带动电子装置在上述各室内工作以完成真空镀防水膜,由于链条上设有多个用于装载电子装置的制具篮,因而可以连续镀膜生产,生产效率得以提高,节省了抽真空时间、装料时间和料加热时间,节省能源,且可使得产品的质量相统一,且镀成的防水膜致密,结合力强,膜层硬度高,适合工业化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 电子 装置 连续 进行 真空 防水 方法 | ||
【主权项】:
一种在电子装置上连续进行真空镀防水膜的装置,其特征在于:包括彼此依次连结的第一低真空室、等离子辉光清洗室、防水膜沉积室、氟化物沉积室和第二低真空室,上述各室内设有一用于传动电子装置的链条,链条上设有多数个用于装置电子装置的制具篮,且上述各室内均连接有抽真空泵组,所述防水膜沉积室上还连接有低温冷凝器。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的