[发明专利]透射电镜样品的制作方法在审

专利信息
申请号: 201410109702.3 申请日: 2014-03-24
公开(公告)号: CN103868773A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 陈强;孙蓓瑶 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种透射电镜样品的制作方法,包括:提供待制作样品,所述样品具有目标厚度和目标区域;根据所述目标厚度确定透射电子束观测的第一电压和第二电压,所述第一电压的电压值高于第二电压的电压值;对所述所述样品进行均匀切割,所述均匀切割的目的是制作厚度均匀的样品,在进行所述均匀切割同时以所述第一电压对所述样品的目标区域进行透射电子书观测,直至所述目标区域的亮度由暗转亮,停止所述均匀切割;以第二电压对所述目标区域进行SEM观察,确认所述目标区域仍然为暗。利用本发明的方法能够准确控制制作的样品的厚度,最终形成制作厚度均匀的透射电镜样品。
搜索关键词: 透射 样品 制作方法
【主权项】:
一种透射电镜样品的制作方法,其特征在于,包括:提供待制作样品,所述样品具有目标厚度和目标区域;根据所述目标厚度确定透射电子束观测的第一电压和第二电压,所述第一电压的电压值高于第二电压的电压值;对所述所述样品进行均匀切割,所述均匀切割的目的是制作厚度均匀的样品,在进行所述均匀切割同时以所述第一电压对所述样品的目标区域进行透射电子书观测,直至所述目标区域的亮度由暗转亮,停止所述均匀切割;以第二电压对所述目标区域进行SEM观察,确认所述目标区域仍然为暗。
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