[发明专利]一种蚀刻药水添加方法、装置及系统有效
申请号: | 201410077485.4 | 申请日: | 2014-03-04 |
公开(公告)号: | CN104902688B | 公开(公告)日: | 2018-09-07 |
发明(设计)人: | 陈德和 | 申请(专利权)人: | 宇宙电路板设备(深圳)有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;C23F1/08 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明适用于蚀刻技术领域,提供了一种蚀刻药水添加方法、装置及系统,该方法包括:获取蚀刻药水中的比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值;将比重当前值与预设的比重目标值相比较,生成两者之间的第一差值,将盐酸当前值与预设的盐酸目标值相比较,生成两者之间的第二差值,将氧化剂当前值与预设的氧化剂目标值相比较,生成两者之间的第三差值;获取第一差值、第二差值、第三差值分别对应的第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例;将第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例与预设的添加周期分别相乘,生成第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间;根据第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间,分别添加清水、盐酸、氧化剂。 | ||
搜索关键词: | 一种 蚀刻 药水 添加 方法 装置 系统 | ||
【主权项】:
1.一种蚀刻药水添加方法,其特征在于,包括:获取蚀刻药水中的比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值,其中,所述比重当前值、盐酸当前值、氧化剂当前值由同一接口获得;将所述比重当前值与预设的比重目标值相比较,生成两者之间的第一差值,将所述盐酸当前值与预设的盐酸目标值相比较,生成两者之间的第二差值,将所述氧化剂当前值与预设的氧化剂目标值相比较,生成两者之间的第三差值;在预先建立的对应表中,获取生成的第一差值、第二差值、第三差值分别对应的第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例;将所述第一添加比例、第二添加比例、第三添加比例与预设的添加周期分别相乘,生成第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间;根据生成的第一添加时间、第二添加时间、第三添加时间,分别添加清水、盐酸、氧化剂;其中,比重当前值为比重监测器当前检测到的蚀刻药水的密度与清水的密度的比值,盐酸当前值为盐酸监测器当前检测到的导电率的电流值转换生成的数值,氧化剂当前值为氧化剂监测器当前检测到的氧化还原反应的电压值转换生成的数值;其中,对应表中存储了差值与添加比例之间的对应关系;其中,所述氧化剂包括氯酸钠或双氧水。
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