[发明专利]新型电化学抛光装置在审
| 申请号： | 201410074980.X | 申请日： | 2014-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN104894634A | 公开（公告）日： | 2015-09-09 |
| 发明（设计）人： | 贾照伟;王坚;王晖 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C25F3/12 | 分类号： | C25F3/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陆勍 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种新型电化学抛光装置，包括：晶圆夹盘、电解液供应装置及抛光电源回路构成装置。晶圆夹盘夹持晶圆，晶圆表面分布有金属层。电解液供应装置包括喷嘴，喷嘴向晶圆表面的金属层喷射电解液。抛光电源回路构成装置包括抛光盘及电源，抛光盘由导电材料制成，抛光盘的底面与晶圆表面平行布置，抛光盘与喷嘴同步移动，电源的阳极与晶圆夹盘电连接，电源的阴极与抛光盘电连接。本发明通过设置抛光盘，并使抛光盘与电源电连接，从而能够保证在晶圆表面的任一区域，抛光盘与晶圆之间均可以形成稳定的电场，且抛光盘与晶圆之间通过电解液形成电流回路，提高了晶圆表面抛光均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 电化学 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种新型电化学抛光装置，其特征在于，包括：晶圆夹盘，所述晶圆夹盘夹持晶圆，晶圆表面分布有金属层；电解液供应装置，所述电解液供应装置包括喷嘴，所述喷嘴向晶圆表面的金属层喷射电解液；及抛光电源回路构成装置，所述抛光电源回路构成装置包括抛光盘及电源，所述抛光盘由导电材料制成，抛光盘的底面与晶圆表面平行布置，抛光盘与所述喷嘴同步移动，所述电源的阳极与晶圆夹盘电连接，所述电源的阴极与抛光盘电连接。
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