[发明专利]薄膜晶体管阵列的制备方法有效
| 申请号： | 201410061345.8 | 申请日： | 2014-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN104867876B | 公开（公告）日： | 2017-11-14 |
| 发明（设计）人： | 金元浩;李群庆;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/84 | 分类号： | H01L21/84;H01L21/34;H01L21/44 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种薄膜晶体管阵列的制备方法，其包括以下步骤提供一绝缘基板，在所述绝缘基板的表面设置一栅极；在所述栅极的表面设置一连续的绝缘层；在所述绝缘层的表面设置一碳纳米管层；对所述碳纳米管层进行图案化，以得到多个源极以及多个漏极；以及，提供一含有多个半导体膜碎片的悬浮液，将所述含有多个半导体膜碎片的悬浮液涂覆于所述绝缘层的表面形成包括多个半导体膜碎片的半导体层，相邻的源极和漏极之间存在至少一半导体膜碎片，该至少一半导体膜碎片覆盖部分的该相邻的源极和漏极。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜晶体管 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管阵列的制备方法，其包括以下步骤：提供一绝缘基板，在所述绝缘基板的表面设置一栅极；在所述栅极的表面设置一连续的绝缘层；在所述绝缘层的表面设置一碳纳米管层与所述栅极绝缘设置；对所述碳纳米管层进行图案化，以得到多个源极以及多个漏极；以及提供一含有多个半导体膜碎片的悬浮液，所述悬浮液由半导体膜碎片和一极性溶剂组成，将所述含有多个半导体膜碎片的悬浮液涂覆于所述绝缘层的表面形成包括多个半导体膜碎片的半导体层，相邻的源极和漏极之间存在至少一半导体膜碎片，所述绝缘层位于所述源极与漏极之间的表面被所述多个半导体膜碎片覆盖的面积占所述绝缘层位于所述源极与漏极之间的表面的面积百分数的范围为2％～80％，该至少一半导体膜碎片覆盖至少部分的该相邻的源极和漏极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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